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真空鍍膜

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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。

硼硅玻璃表面沉積TiAlN/SiN薄膜的結構及性能

采用連續式磁控濺射技術在硼硅玻璃表面沉積了TiAlN/SiN復合薄膜。
溶膠-凝膠法制備柱狀TiO2薄膜及其光催化性能研究

在石英基板上用溶膠-凝膠法旋涂制備單層厚度約為20 nm 的柱狀晶形貌TiO2薄膜，并研究了退火溫度對TiO2薄膜晶體結構、微觀形貌、光催化活性能的影響規律。
PLD制備CuAlO2薄膜的結構與性能研究

本文以致密的CuAlO2陶瓷為靶材，采用脈沖激光沉積技術在藍寶石和石英襯底上制備CuAlO2薄膜，并對樣品進行退火處理，研究退火條件對薄膜結構和性能的影響。
沖擊載荷作用下金屬薄膜缺陷的多尺度分析

應用多尺度方法對帶有表面缺陷的膜-基結構進行模擬研究，旨在多角度地揭示金屬薄膜失效機理。
氫化處理對Li-W共摻雜ZnO薄膜性能的影響

本論文主要通過對比討論了Li-W 共摻雜( LWZO) 薄膜及LWZO：H 薄膜的結晶性能、表面形貌、光學性能的影響以及分析了氫化處理對LWZO薄膜的摻雜效率的影響。
H13鋼-TiAlN滲/鍍復合層承載能力研究

在H13 鋼離子氮化基體上沉積TiAlN 鍍層，在其表面形成滲鍍復合層，研究滲氮基體不同表面預處理對滲/鍍復合層微觀形貌及承載能力的影響。
立方氮化硼薄膜的制備及研究

本文采用過渡層技術，在硅片上先沉積三元BC-N過渡層，再沉積c-BN層，有效地降低薄膜內應力，實現了c-BN厚膜的制備。同時，本文也對薄膜的結構、成分、表面狀態和納米硬度進行了表征。
Ti6Al4V表面沉積TiCN薄膜的結構及水環境中的摩擦學性能

本文即采用多弧離子鍍技術在Ti6Al4V合金表面沉積TiCN薄膜，研究了該薄膜的形貌、結構以及在干摩擦、水和海水環境條件下的摩擦學行為。
氮氧化鉿薄膜力學與光學特性研究

氮氧化鉿薄膜作為多元化合物，討論N、O 不同化學計量比對其力學和光學性能影響就具有重要意義。
沉積角度對激光沉積類金剛石膜的影響

本文通過傾斜襯底而不是移動或傾斜靶材來改變激光沉積類金剛石膜的沉積角度，因此等離子體的動能和分布不受影響。
航空透明件導電膜用納米耐磨保護涂層研究

本文以紫外光固化樹脂為有機相，采用溶膠- 凝膠法制備出納米SiO2為無機相，研制出與有機玻璃飛機透明件導電膜匹配的耐磨保護涂層。
鋼鐵基體沉積金剛石膜的研究進展

本文對不同成分和組織鋼鐵基體化學氣相沉積金剛石膜的影響因素進行了分析，綜述了鋼鐵表面化學氣相沉積金剛石膜的國內外研究現狀，指出了今后鋼鐵上沉積金剛石膜的發展方向。
基于氧化錫薄膜的表面傳導場致發射陰極陣列的制備及性能研究

利用磁控濺射和陽光刻技術在玻璃基底上成功制備了不同厚度SnO2的表面傳導場致發射陰極陣列，并測試其場致發射性能。
氧分壓影響中頻磁控濺射沉積SiO2薄膜光學性能研究

本文采用中頻反應磁控濺射法制備SiO2 薄膜并對其性能進行了研究。對于氧分壓影響薄膜結構和性能的機制進行了深入的分析。
新一代太陽能集熱板真空鍍膜生產線系統的開發

采用連續式太陽能集熱板真空鍍膜生產方式，以提高集熱膜層在大氣中使用的耐候性能及集熱性能為目的的膜層、膜系研究和設備結構的研制，是當前太陽能集熱器光譜選擇性吸收膜層研究、生產和發展的主要方向。
多弧離子鍍TiN薄膜顏色性能的研究

本文旨在系統研究大顆粒、氮氣流量與靶電流對膜層色澤的影響及其變化規律，為采用多弧離子鍍制備氮化鈦仿金裝飾膜及優化膜層色澤提供依據。
陰極弧離子鍍制備AlCrN涂層的高溫摩擦磨損行為

本文采用陰極弧離子鍍法在TiC金屬陶瓷刀具表面制備了AlCrN涂層，分析其在900℃高溫下摩擦磨損行為，為超大型齒圈高效切削加工提供技術參考。
層狀Cr2AlC納米晶的合成及其摩擦學行為

本工作以Cr、Al、石墨單質為原料，通過優化混料方式( 磁力攪拌混料) ，采用無壓燒結方法合成了Cr2AlC粉末，開展了Cr2 AlC 納米材料在潤滑油中摩擦學性能的研究。
不同調制周期TiAlSiN/Mo2N 層膜的微觀結構、力學和摩擦性能研究

本文利用射頻磁控濺射法制備一系列不同調制周期的TiAlSiN/Mo2N 薄膜，研究其微結構、力學性能和摩擦性能。
Ag超薄膜生長的動力學蒙特卡羅模擬

本論文采用二維動力學蒙特卡羅的方法模擬了Ag薄膜在Pt(111)上的生長過程，并將仿真結果與國外已報道的實驗結果進行了比較，從而證明計算機仿真模型的合理性。進一步地，通過計算機模擬預測了島形貌明顯轉變的溫度區