利用Gibbs自由能判據計算了室溫和1000 K 溫度下TiAl 體系非晶形成成分區間。計算結果表明,TiAl 非晶形成區間為10%~ 80%( 原子比)Ti。在計算結果的指導下, 設計薄膜的成分區間, 利用非平衡多靶濺射沉積開展了TiAl 非晶薄膜在Si 和U 基上的形成研究。實驗在不同脈沖偏壓、沉積速率、基體初始溫度下進行, 薄膜組元成分通過不同靶材的沉積速率來控制完成。利用X 射線衍射、掃描電鏡、俄歇分析譜儀分析了薄膜的組織結構、表面及界面形貌和成分區間。結果表明, TiAl 體系在U 基上未能獲得非晶薄膜, 而在Si 基上獲得了非晶薄膜。所選工藝下, Si 基上TiAl 非晶薄膜形成的成分區間為25%~ 40%Ti, 60%~ 75%Al。為了能在U 基上獲得非晶薄膜, 加入了第三組元Ni, 成功地獲得了TiAlNi 非晶薄膜。

　　非晶態合金即金屬玻璃, 是一種亞穩態結構, 具有短程有序, 長程無序的特征, 固態時其原子的三維空間呈拓撲無序排列, 并在一定范圍內, 這種狀態保持相對穩定。由于非晶態合金不存在通常金屬所具有的晶粒邊界, 因而具有一系列獨特的性能。非晶態合金具有優異的軟磁性能, 顯微結構的均勻及磁各向異性的缺乏, 造成了其低的矯頑力和低磁滯損耗的特點。由于缺乏滑移系, 非晶態合金的機械性能與一般金屬具有很大的不同。在高溫下會產生粘滯流現象, 為超塑性成型提供了可能, 變形時無加工硬化現象, 并且具有很高的屈服強度。非晶態合金的一個非常重要的性質是超強的抗腐蝕性, 良好的耐磨性, 它可以作為非常好的薄膜材料來抵惡劣的環境。利用非晶態合金的這些性能, 將其薄膜化, 獲得的非晶薄膜在許多領域有重要的應用前景。該工作選用金屬U 作為基體材料, U 具有獨特核性能使其廣泛地應用于國防和核能工程等領域。但U 化學性質非常活潑, 即使在自然環境中也易發生腐蝕, 希望通過實驗在U 基材料表面獲得非晶薄膜, 提高其抗腐蝕性能。主要針對不同的基體材料(U 和Si) 、偏壓、沉積速率、溫度, 研究鈦基非晶體的形成能力和成分范圍。

3、結論

　　(1) 利用非平衡多靶濺射沉積方法, 在計算結果的指導下, 設計的薄膜成分期間, 通過不同靶材的沉積速率來完成薄膜成分控制。在不同基體材料、脈沖偏壓、沉積速率、基體初始溫度下制備了TiAl, TiAlNi 薄膜。TiAl 體系在Si 基上、TiAlNi 在U 基獲得了非晶薄膜, 其它為晶化薄膜。

　　(2) 在所選工藝下, Si 基上TiAl 非晶薄膜形成的成分區間為25%~ 40%Ti, 60% ~ 75%Al;

　　(3) 非晶薄膜的形成不但與組元體系的生成熱力學、鍍膜工藝有關, 同時還與基體的晶體結構有關, 而且U 表面難以獲得TiAl 非晶體薄膜。