真空應(yīng)用
推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝
電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。
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氧分壓影響中頻磁控濺射沉積SiO2薄膜光學性能研究
本文采用中頻反應(yīng)磁控濺射法制備SiO2 薄膜并對其性能進行了研究。對于氧分壓影響薄膜結(jié)構(gòu)和性能的機制進行了深入的分析。
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正交電磁場離子源及其在PVD 法制備硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用
本文介紹幾種不同類型的正交電磁場離子源，并結(jié)合其在不同體系硬質(zhì)涂層沉積過程中的應(yīng)用，綜述離子源的結(jié)構(gòu)、工作原理;分析其產(chǎn)生的離子束對硬質(zhì)涂層成分、結(jié)構(gòu)、性能的影響。
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新一代太陽能集熱板真空鍍膜生產(chǎn)線系統(tǒng)的開發(fā)
采用連續(xù)式太陽能集熱板真空鍍膜生產(chǎn)方式，以提高集熱膜層在大氣中使用的耐候性能及集熱性能為目的的膜層、膜系研究和設(shè)備結(jié)構(gòu)的研制，是當前太陽能集熱器光譜選擇性吸收膜層研究、生產(chǎn)和發(fā)展的主要方向。
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真空熱處理發(fā)展之我見
我國的真空熱處理起步晚、發(fā)展快，我國的真空熱處理的發(fā)展還需要注意：應(yīng)大力發(fā)展高壓氣淬爐、低真空高壓熱處理技術(shù)非常值得、開發(fā)適應(yīng)高速鋼熱處理的高壓氣淬爐等。
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對我國真空熱處理路線圖的一些看法和建議
美國在2004年發(fā)布了其熱處理路線圖，對美國2020年的熱處理技術(shù)發(fā)展提出了非常明確的目標。中國真空熱處理路線圖應(yīng)是一個整體真空熱處理發(fā)展規(guī)劃。
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CSNS/RCS二極陶瓷真空盒磁控濺射鍍TiN薄膜研究進展
為降低陶瓷表面的二次電子發(fā)射系數(shù)(SEY)，采用直流磁控濺射的方法，對二極陶瓷真空盒內(nèi)壁鍍氮化鈦(TiN)薄膜工藝進行實驗研究。
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冷坩堝真空感應(yīng)熔煉設(shè)備進展
敘述了冷坩堝真空感應(yīng)熔煉設(shè)備的發(fā)展現(xiàn)狀，對設(shè)備應(yīng)用及其組成進行了簡要介紹。對冷坩堝感應(yīng)加熱裝置的重要零部件進行了分析，同時介紹了鑄造裝置的四種結(jié)構(gòu)形式。
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磁控濺射靶磁場的有限元模擬分析
本文應(yīng)用COMSOL軟件對JGP450C型磁控濺射鍍膜機的圓平面靶表面磁感應(yīng)強度進行了模擬分析計算，得到了靶面水平磁感應(yīng)強度較強、分布較均勻的磁鐵結(jié)構(gòu)參數(shù)。
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鉛銀合金真空分離的研究
本文利用真空蒸餾分離鉛銀合金，對鉛銀合金真空分離提供理論依據(jù)和基礎(chǔ)實驗參數(shù)，為實現(xiàn)冶金行業(yè)的可持續(xù)發(fā)展提供技術(shù)原型。
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制備工藝對磁控濺射Mo-N薄膜微結(jié)構(gòu)和性能的影響
本文采用射頻磁控濺射的方法，通過改變反應(yīng)環(huán)境中的Mo 靶功率、氬氮比、負偏壓等制備一系列的Mo-N 薄膜，利用X 射線衍射儀、納米壓痕儀、掃描電子顯微鏡和摩擦磨損測試儀對其相結(jié)構(gòu)、顯微硬度和摩擦性能進行研究。
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真空碳熱還原分解硫酸鈣熱力學分析及實驗探究
本文提出對硫酸鈣進行真空碳熱還原分解研究，探究硫酸鈣在真空條件下碳熱還原分解熱力學條件，并實驗進行驗證，以期達到降低硫酸鈣分解能耗，合理利用工業(yè)廢石膏的目的。
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