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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。

基于反應氣體和生長溫度的Nb摻雜TiO2薄膜相圖研究

應用射頻磁控濺射設備在超白玻璃和石英玻璃等非晶基體上生長Nb 摻雜TiO2薄膜。
敏感陶瓷表面濺射金屬化研究

本文的目的在于通過在NTC熱敏電阻表面制備濺射膜Ni /V-Ag 電極來研究NTC敏感陶瓷表面濺射金屬化的可行性。
聚碳酸酯表面碳基薄膜的制備及其光學性能研究

本文采用RFPECVD技術在PC材料表面沉積DLC薄膜，研究DLC薄膜和PC基片系統的摩擦學和光學性能。
立方氮化硼薄膜的制備及研究

本文采用過渡層技術，在硅片上先沉積三元BC-N過渡層，再沉積c-BN層，有效地降低薄膜內應力，實現了c-BN厚膜的制備。同時，本文也對薄膜的結構、成分、表面狀態和納米硬度進行了表征。
Ti6Al4V表面沉積TiCN薄膜的結構及水環境中的摩擦學性能

本文即采用多弧離子鍍技術在Ti6Al4V合金表面沉積TiCN薄膜，研究了該薄膜的形貌、結構以及在干摩擦、水和海水環境條件下的摩擦學行為。
氮氧化鉿薄膜力學與光學特性研究

氮氧化鉿薄膜作為多元化合物，討論N、O 不同化學計量比對其力學和光學性能影響就具有重要意義。
沉積角度對激光沉積類金剛石膜的影響

本文通過傾斜襯底而不是移動或傾斜靶材來改變激光沉積類金剛石膜的沉積角度，因此等離子體的動能和分布不受影響。
硫渣真空蒸餾的實驗探究

本文采用真空蒸餾的方法，利用錫與硫化亞銅在真空高溫下進行反應，得到硫化亞錫與金屬銅，其中硫化亞錫在此條件下全部揮發，從而實現硫渣中錫銅分離回收的目的，為硫渣處理的新方法提出了思路。
真空精煉提純工業硅除鈣研究

本文在真空揮發精煉除鈣理論研究的基礎上，開展了工業硅真空揮發精煉除鈣的實驗研究，考查了精煉時間、精煉溫度等因素對鈣去除效果的影響。
MgO/Au復合薄膜的反應射頻磁控濺射法制備及表面形貌研究

本文采用反應射頻磁控濺射法制備MgO/Au復合薄膜，比較了Mg靶和Au靶共濺射、分步濺射制備復合薄膜的表面成分及形貌，研究了濺射時襯底溫度和Ar/O2氣體流量比對薄膜晶粒分布、晶粒尺寸和結晶取向的影響。
MIVM在真空蒸餾分離鋁硅合金中的應用

為真空蒸餾分離鋁硅合金提供了可靠的理論依據及預測模型，對于研究鋁硅合金中鋁的分離限度具有重要參考作用。
NiFeNb緩沖層和NiO插層對坡莫合金薄膜各向異性磁電阻的影響

為了研制出高精度的地磁導航系統，必須開發出對弱磁場及方位都敏感的磁性材料-坡莫合金薄膜。
航空透明件導電膜用納米耐磨保護涂層研究

本文以紫外光固化樹脂為有機相，采用溶膠- 凝膠法制備出納米SiO2為無機相，研制出與有機玻璃飛機透明件導電膜匹配的耐磨保護涂層。
鋼鐵基體沉積金剛石膜的研究進展

本文對不同成分和組織鋼鐵基體化學氣相沉積金剛石膜的影響因素進行了分析，綜述了鋼鐵表面化學氣相沉積金剛石膜的國內外研究現狀，指出了今后鋼鐵上沉積金剛石膜的發展方向。
基于氧化錫薄膜的表面傳導場致發射陰極陣列的制備及性能研究

利用磁控濺射和陽光刻技術在玻璃基底上成功制備了不同厚度SnO2的表面傳導場致發射陰極陣列，并測試其場致發射性能。
真空冶金法處理脆硫鉛銻礦分離鉛銻的新工藝研究

本文從理論上簡單分析了采用真空冶金法處理脆硫鉛銻礦分離鉛與銻新工藝的可行性，并對該新工藝中影響鉛與銻分離效果的溫度、時間等因素進行了討論。
真空管道交通系統超音速狀態下熵層的研究

基于粘性流體k-ε雙方程湍流模型，建立真空管道交通系統三維數學模型和物理模型，并在超音速狀態下對所建模型進行數值模擬。
SiC顆粒增強鋁基復合材料的真空釬焊性研究

選用Pb80Sn20釬料，對體積分數20%的SiCP/A356復合材料進行真空釬焊，分析了表面鍍鎳和不鍍鎳對其真空釬焊性的影響，并通過金相顯微、能譜分析等手段研究了保溫時間對其釬焊接頭組織的影響。
126kV模塊化三斷口真空斷路器靜、動態均壓設計

采用有限元法計算了U型三斷口真空斷路器的分布電容參數，并通過工頻分壓特性試驗驗證了計算的準確性，根據靜態分壓比計算結果選擇了合適的靜態均壓電容值。
用于真空熱處理爐的石墨電熱元件性能分析

本文將應用理論分析和仿真分析相結合的方法科學的評價石墨作為電熱元件的優缺點，為真空電熱元件的設計提供依據。