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(TiAlNb)N多組元硬質(zhì)反應(yīng)膜研究

采用多弧離子鍍技術(shù)，通過采用Ti-Al 合金靶及Ti-Nb靶的組合方式，在高速鋼基體上制備了(TiAlNb) N多組元硬質(zhì)反應(yīng)膜。

類金剛石碳膜高溫摩擦學(xué)性能的研究進(jìn)展

本文綜述了近年來國(guó)內(nèi)外高溫工況條件下類金剛石碳膜的摩擦學(xué)性能研究成果，總結(jié)了類金剛石碳膜在高溫環(huán)境下的摩擦學(xué)性能及其影響因素規(guī)律，闡述了類金剛石碳膜高溫摩擦學(xué)行為的分析方法，提出了類金剛石碳膜高溫摩擦

高砷粗鉛真空蒸餾脫除砷的研究

采用鼓風(fēng)爐熔煉高砷粗鉛為原料，對(duì)其真空蒸餾脫除砷進(jìn)行理論分析和實(shí)驗(yàn)研究，考察蒸餾溫度、恒溫時(shí)間對(duì)砷脫除率、金屬鉛直收率的影響。

基于負(fù)偏壓收集極的絕緣體二次電子發(fā)射系數(shù)測(cè)量

通過給收集極設(shè)定負(fù)偏壓，本文提出了一種新的電荷中和方法，有效地中和了在測(cè)量過程中累積在樣品表面的電荷。

輝弧共濺射Ar/N2流量比對(duì)TiN薄膜結(jié)構(gòu)及硬度的影響

本文在固定其它工藝參數(shù)的基礎(chǔ)上研究了Ar/N2流量比對(duì)TiN 薄膜結(jié)構(gòu)及硬度的影響。

硅熱法煉鎂用白云石球團(tuán)制備及煅燒工藝研究

本文根據(jù)白云石礦的物性特點(diǎn)，提出將白云石礦先造球，后煅燒，最后進(jìn)行熱還原得到金屬M(fèi)g。

低溫等離子體輔助脈沖直流磁控濺射制備TiN薄膜

采用一種新型的等離子體輔助脈沖直流磁控濺射濺射沉積方法，在低溫狀態(tài)下制備了氮化鈦薄膜，并對(duì)氮化鈦薄膜進(jìn)行了表征，研究了等離子體源在薄膜制備過程中的作用。

Si3N4球/DLC膜摩擦副在真空環(huán)境下的摩擦學(xué)行為研究

本文研究了真空環(huán)境下DLC膜與Si3N4摩擦副的摩擦學(xué)行為，分析探討DLC膜摩擦副在真空環(huán)境下的摩擦磨損機(jī)理，為DLC膜在真空環(huán)境下的應(yīng)用提供理論依據(jù)。

(Ti，Al，Si，C)N硬質(zhì)膜層高溫性能研究

采用等離子增強(qiáng)電弧離子鍍聯(lián)合磁控濺射工藝制備了含35%(原子比)C的(Ti，Al，Si，C)N硬質(zhì)膜層，并利用掃描電鏡、X射線衍射儀及高溫摩擦磨損試驗(yàn)儀表征了膜層在不同退火條件下的性能及組織演變行為。

板栗真空破殼工藝的研究與熱力學(xué)分析

板栗脫殼歷來是板栗加工的技術(shù)難題，本文介紹了板栗在真空中破殼的機(jī)理的研究現(xiàn)狀。根據(jù)板栗的幾何尺寸和物理參數(shù)，用ANSYS 軟件建立了板栗的有限元分析模型。

硼鎂石真空鋁熱還原提鎂實(shí)驗(yàn)研究

本研究采用真空鋁熱還原法，從硼鎂石中提鎂。基于作者前期針對(duì)硼鎂石原料煅燒條件對(duì)氧化鎂還原率影響的初步研究結(jié)果，本文將著重分析還原階段不同條件對(duì)還原過程的影響。

基于SolidWorks真空開關(guān)觸頭的參數(shù)化設(shè)計(jì)

本文以三維造型軟件SolidWorks為開發(fā)平臺(tái)，以VB為二次開發(fā)工具，利用參數(shù)化系統(tǒng)建模法，對(duì)真空開關(guān)電極觸頭的進(jìn)行參數(shù)化分析，并設(shè)計(jì)了其參數(shù)化系統(tǒng)。

銀基透明導(dǎo)電薄膜制備及其性能研究

本文采用磁控濺射沉積，通過優(yōu)化Ag層與上下介質(zhì)層膜厚，獲得了ZnO/Ag/ZnO、AZO/Ag/AZO 體系的三層透明導(dǎo)電薄膜，并且在Ag與氧化物界面插入超薄LiF或Al來探究該體系多層膜的熱穩(wěn)定性。

TC4鈦合金低壓真空滲氮處理

熱處理對(duì)Co-Cr-Ta合金靶材磁性能的影響

本文從改善靶材的制備工藝，提高靶材表面漏磁率出發(fā)，結(jié)合Co-Cr-Ta合金的差示掃描量熱法曲線，采用不同的熱處理制度對(duì)Co-Cr-Ta合金進(jìn)行了熱處理。

退火對(duì)Al-Al2O3-Ti/Au金屬-絕緣體-金屬電子源發(fā)射特性的影響

本文通過對(duì)Al-Al2O3-Ti/Au結(jié)構(gòu)的MIM器件Ti/Au頂電極和Al底電極進(jìn)行不同溫度的退火處理，研究退火工藝對(duì)器件電子發(fā)射特性的影響。

射頻磁控濺射法沉積SiC-Al薄膜的摩擦特性

通過使用雙靶位磁控濺射設(shè)備在Ti-6Al-4V合金上沉積了SiC-Al 薄膜，著重研究了Al原子的濃度對(duì)SiC-Al薄膜的摩擦系數(shù)的影響以及Al中間層對(duì)界面強(qiáng)度的影響。

應(yīng)用于TGV的ICP玻璃刻蝕工藝研究

本文通過正交實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)方法，研究ICP石英玻璃刻蝕工藝中工作壓強(qiáng)、C4F8流量、Ar流量三個(gè)工藝參數(shù)對(duì)深孔刻蝕的影響，探索提高刻蝕速率的優(yōu)化組合。

直流磁控濺射中矩形平面靶刻蝕形貌的數(shù)值計(jì)算及優(yōu)化

本文通過在基片和靶材間加正向電場(chǎng)，改變了電子的運(yùn)動(dòng)軌跡和空間分布，優(yōu)化了矩形平面靶的刻蝕形貌，提高了靶材利用率。

真空絕熱板導(dǎo)熱系數(shù)快速測(cè)量方法的研究

本文以傳統(tǒng)的大平板熱保護(hù)法測(cè)量絕熱材料為理論基礎(chǔ)，致力于研究出一種新型的基于埋入式熱流計(jì)法快速測(cè)量VIP 導(dǎo)熱系數(shù)的方法。