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復合磁場對真空熔鑄高溫合金鑄件凝固組織的影響

為了進一步提高真空熔鑄高溫合金鑄件的的質量，本文系統研究了在K417高溫合金真空熔鑄過程中施加由工頻交流電磁場和恒穩直流電磁場組成的復合磁場對高溫合金鑄件凝固組織的影響。

定向凝固技術在冶金法多晶硅制備過程中的應用

本文提出將冶金法多晶硅定向凝固提純過程和定向凝固鑄造過程合并成一個新型的定向凝固工序。

基于連續過渡模型的直流真空斷路器弧后介質恢復分析

本文以有源式直流真空斷路器為研究對象，運用變步長四階龍格庫塔法，基于連續過渡模型，結合重擊穿判據，對其弧后介質恢復進行仿真分析。

等離子噴涂涂層微觀結構的蒙特卡羅模擬

本文使用蒙特卡羅方法建立隨機模型預測等離子噴涂涂層顯微結構及其孔隙率和粗糙度，并研究工藝參數對涂層孔隙率和表面粗糙度的影響。

大氣壓等離子體射流陣列研究進展

本文綜述了大氣壓等離子體射流陣列研究現狀，在介紹了各種射流陣列的產生結構和驅動電源類型的基礎上，討論了其產生機理以及診斷技術，并介紹了射流陣列的典型應用，分析了其研究中存在的一些需要解決的關鍵問題。

氬氣/空氣輝光放電對聚乙烯薄膜的表面改性研究

利用氬氣/空氣混合氣體輝光放電對聚乙烯(PE) 材料表面改性。

預熱處理前驅體后硫化溫度對Cu2ZnSnS4薄膜性能影響的研究

本文在優化過的預熱處理條件的基礎上研究了不同硫化溫度對于制備的CZTS薄膜性能的影響。

以氧化鋰為原料真空鋁熱還原法制備金屬鋰的正交實驗研究

本文以碳酸鋰和氧化鋁為原料，利用真空鋁熱還原法制備金屬鋰。通過設計正交實驗，分別考查了還原時間、還原溫度、還原劑的加入量以及還原劑的粒度活性對金屬鋰還原率的影響，確定了最佳實驗條件參數。

真空開關觸頭動態位置檢測研究

本文基于真空開關電弧燃燒序列圖像，檢測電弧的上、下邊緣，并對邊緣檢測結果進行直線擬合計算出動、靜觸頭的位置，為后續觸頭開距對電弧形態影響的研究打下基礎。

空間太陽近紫外輻照對ACR-1白漆表面導電性能的研究

通過試驗研究了近紫外輻照對ACR-1白漆電學性能的影響，并用X射線光電子能譜儀和四極質譜儀對ACR-1白漆的組分和狀態等進行了分析，進而對其電學性能變化的機理進行了分析。

空間站尿液處理技術研究及進展

液態金屬在非均勻多孔介質表面的潤濕行為研究

通過將實際問題模型化，基于經典潤濕模型和毛細粘附理論，研究了三種金屬液滴在多孔介質表面的潤濕行為，進而提出了一種防止液滴飛濺的“自束液”防溢設計策略。

遠程傳輸型共底安全監測系統設計及特性

本文主要介紹了共底安全監測系統的歷次設計變化情況，新一代遠程傳輸型共底安全監測系統的主要結構及單元設計、性能與技術指標測試結果。

太陽能集熱管涂層關鍵技術進展

本文針對氧化物- 金屬陶瓷太陽能選擇性涂層，研究開發了大功率射頻磁控濺射技術，太陽能選擇性涂層模擬計算模型。

基于SU-8/PMMA雙層膠技術的硅點陣結構制作

本文采用SU-8/PMMA雙層膠軟壓印的新方法在硅表面獲得金屬薄膜的點陣圖形，進而通過金屬輔助化學刻蝕的方法獲得硅點陣結構。

氟磷酸鈣與碳反應生成CaO、CO(g)、CaF2和PO2(g)的熱力學

本文針對2Ca5(PO4)3F+3C=9CaO+3CO(g)+CaF2+6PO2(g)進行熱力學分析。

DC-HCPCVD法低溫低壓下納米金剛石膜的制備及生長特性研究

本文在CH4/H2氣氛下，在低溫低壓下低成本生長納米金剛石膜，研究所得納米金剛石膜的組成結構特點，擴展直流熱陰極PCVD法納米金剛石膜制備工藝。

移動式溶劑汽相干燥設備的傳熱傳質過程系統模型

溶劑汽相干燥處理是大型油浸式電力變壓器生產和維修過程中最重要的工藝過程之一。本文詳細介紹了移動式溶劑汽相干燥技術的工作原理、設備系統組成、以及生產工藝流程。

占空比對磁控濺射TiAlN薄膜性能影響的實驗研究

采用中頻孿生磁控濺射技術，通過調整薄膜沉積過程中占空比大小，制備TiAlN 薄膜。

真空玻璃內部吸氣劑的應用

本文主要論述了真空玻璃中使用吸氣劑來保持真空度的重要性，并介紹真空玻璃對吸氣劑的特殊要求，真空玻璃發明人研制出了包封吸氣劑及解封技術。