甚高頻等離子體增強化學氣相沉積技術是當前高速制備優質微晶硅(μc-Si:H)薄膜的主流方法，其生長機理也一直是研究的熱點和難點。本文采用Comsol軟件中的等離子模塊和Chemkin軟件中的AUROR模塊相結合的方法，對H2和SiH4混合氣體等離子體放電、氣相反應和表面生長過程進行了數值模擬，研究了沉積功率對μc-Si:H薄膜沉積速率和結構特性的影響。首先，通過一維的放電模型，獲得電子溫度和電濃度等等離子體參數。隨后，將該參數帶入氣相和表面反應模型，得到各種粒子的氣相濃度和薄膜的特性參數。模擬過程涉及24個電子碰撞反應、42個氣相反應和43個表面反應。同時利用光發射譜對實驗過程中等離子輝光特性進行了在線檢測，并制備了實驗樣品。將模擬的SiH3基團、H原子的氣相濃度以及它們的比值，生長速率，薄膜中的氫含量和薄膜生長取向等同實驗進行了對比，發現能夠較好的吻合。

　　氫化微晶硅(μc-Si:H)薄膜具有高的光、電穩定性，和非晶硅薄膜相同的制備工藝，良好的長波響應性等優點;特別是可以和非晶硅薄膜相結合構成疊層電池，進一步提高電池的轉換效率。微晶硅薄膜生長機理的研究在薄膜的制備過程中對調控微結構、優化電池性能等方面具有重要意義。但是由于μc-Si:H薄膜的生長是個復雜的過程，且對等離子體監測的設備費用昂貴，并且需要的周期較長，因此如能結合計算機模擬的方法分析各個沉積參數對薄膜沉積過程的影響，將對實驗具有重要的指導意義。Bhandarkar等和Bleecker等對硅烷等離子中大分子氣相團簇的形成原因進行模擬，Nienhuis等采用一維流體模型對SiH4-H2等離子體放電進行了模擬，Zhang等采用二維流體模型研究了微晶硅的等離子放電過程和薄膜沉積過程。但這些模擬大多只針對沉積過程的某一個環節，且與實驗的比較僅限于薄膜的沉積速率，不能揭示沉積參數與薄膜特性間的關系。Satake等對等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)法沉積μc-Si:H薄膜的整個過程進行了模擬，并對薄膜特性進行了分析，遺憾的是沒有詳細的實驗結果支撐。李艷陽采用Comsol軟件對H2氣放電進行了模擬，其結果和實驗結果能很好的吻合。基于此，本文首先采用Comsol軟件對氫氣和硅烷混合氣體進行等離子體特征模擬，求得電子溫度和電子濃度等參量，然后運用Chemkin中的AURORA模塊，在腔體氣相反應和表面生長方面對甚高頻化學氣相沉積微晶硅薄膜的生長過程進行了模擬，得出反應過程中各反應基團的含量、薄膜沉積速率、薄膜中氫的含量等;采用SR-500型光發射譜(OES)儀對氣相反應過程進行在線監測，并將制備的微晶硅薄膜與模擬結果進行對比。

1、模型和實驗

　　1.1、模型和參數

　　首先采用Comsol軟件中的CCP模塊，通過電子與H2、H原子、SiH4的各種彈性碰撞、激發、電離等截面，建立一維模型對硅烷和氫氣混合氣體等離子放電進行模擬，模型中涉及24個反應方程。在求得平均電子溫度、電子濃度的基礎上，利用Chemkin中的AURORA模塊進行氣相和表面反應過程的模擬。

　　在氣相反應中，充分考慮了薄膜生長前驅物在表面的吸附反應、H原子的脫附與插入反應、表面吸附基團間的鍵連反應、以及刻蝕反應等對薄膜生長的重要作用和對薄膜質量的影響，涉及多種分子(SiH4H2，Si2H6，SI3H8，Si4H10，SI5H12，SI6H14)和中性基團(SiH3，SiH2，SiH，H3SiSiH，Si2H5，Si3H7，Si4H9，H)。采用的襯底為硅襯底，Si(100)和Si(111)面的面密度分別為1.12×10^-9 mol/cm2和1.3×10^-9 mol/cm2。表面反應過程中性基團在硅襯底上吸附生成11種表面吸附基團，例如SiH3(s)、SiH2(s)、SiH(s)等，在軟件中表示為SHHH(s)，SSHH(s)、SSSH(s)。生長表面的Si懸掛鍵可分為單鍵SSSD(s)和雙鍵SSDD(s)。體相基團包含Si、SiH和SiH2，表示為SSSS(B)，SSSH(B)，SSHH(B)三種。基于上述，共選擇了42個氣相反應[6，10]和43個表面反應方程，其中氣體溫度為400K，表面溫度固定在493K。

　　1.2、實驗

　　在薄膜沉積實驗中，頻率固定在75MHz，流量為100ml/min(標準狀態)，硅烷濃度為3%，表面溫度為493K，極板間距為1.5cm，反應極板面積為78.5cm2，反應壓強為2.66×10²Pa，功率的變化范圍為30～70W。所有樣品都是在沈陽科學儀器廠研制的高真空四室連續PECVD系統的本征室制備的，高頻電源為英國CoaxialPowersystems公司RFA300Wb系列。反應氣體為硅烷和高純氫氣的混合氣體;襯底為普通玻璃;用分光光度計(日本島津UV23100)測量微晶硅薄膜的厚度;用拉曼光譜儀(Renishaw2000)表征材料的結晶狀況，并對譜線進行了三峰高斯擬合來估算晶化率;XRD(PhilipsPANAlyticalX'pertwithCuKα，λ=0.1540598nm)分析沉積膜不同面的峰值強度，從而估計不同面的生長速度。在沉積過程中，采用SR-500型OES儀對反應的氣相過程進行在線檢測，其波長范圍為200～800nm，掃描步長為0.05nm，分析不同放電條件下峰位在656，486和414nm附近的Hα、Hβ和SiH*發光強度。

3、結論

　　本文采用Comsol中的等離子體模塊和Chemkinpro中的AUROR模塊相結合的方法，研究了甚文頻PEVCD沉積μc-Si:H薄膜過程中放電功率對等離子體特性、氣相反應和表面生長的影響，并與實驗進行了比較。模擬結果顯示，隨著沉積功率的增加，電子濃度和電子溫度同步增大，使氣相中沉積前驅基團濃度增加，薄膜的沉積速率增大，(111)面的生長速率增強。同時，氣相中SiH3/H比值隨功率的降低，有助于薄膜晶相結構的生長，使薄膜中H含量降低和表面懸掛鍵數目增多，并且這些共同作用于晶粒尺寸的生長。同時模擬結果和實驗能較好的吻合，說明該模擬方法能夠用來分析和預測微晶硅薄膜的生長特性。