脈沖輝光PECVD制備DLC薄膜的結構和性能研究

2020-04-18 真空技術網 真空技術網整理

　　摘　要：類金剛石碳膜以其優異的性能,諸如高電阻率、高硬度、低摩擦系數、良好的光學特性等顯示出良好的應用前景,越來越受到人們的關注.本文利用脈沖輝光PECVD在不同的脈沖電壓下成功地制備了DIE薄膜.采用拉曼光譜儀、原子力顯微鏡、納米壓痕儀等設備對薄膜的相結構、表面形貌和力學性能進行了綜合分析.

　　關鍵詞：脈沖放電;等離子體輔助化學氣相沉積法;類金剛石碳膜;Raman光譜;表面形貌

　　分類號：O484.1　文獻標識碼：A

　　文章編號：1672-7126(2008)增刊-033-05

Microstructures and Properties of Diamond-Like Carbon Films Grown by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

Gou Wei　 Li Jianfeng　 Chu Xinpu　 Zhang Liping　 Li Guoqing