采用外置電感耦合等離子體化學氣相沉積法，以高純CH4/ N2/ CO2 /H2 作為反應氣體，制備出非晶的a-CHON 薄膜。研究了放電功率對薄膜沉積速率、表面形貌及光學性能的影響。結果表明沉積速率隨著放電功率的增加而增加，而非線性增加；原子力顯微鏡分析結果表明放電功率對薄膜粗糙度有較大的影響；紅外光譜分析表明了薄膜內部存在C-O，C= O，CSN 以及C-H 鍵；紫外- 可見- 近紅外光分析表明，薄膜的光學帶隙隨放電功率的增加而減小；薄膜折射率在可見光區的色散圖表明，折射率隨入射光頻率的增加而減小，出現反常色散關系；而在同一波長下薄膜的折射率先隨放電功率的增加而減小，而后又有所增加。

　　非晶碳氮薄膜(a-CNx)以及類金剛石(DLC)薄膜因具有許多優異的性能，如較高的硬度、低的摩擦系數、較高的折射率和熱傳導性以及優異的化學穩定性等，而引起人們的廣泛關注，這些優異的性能使其在許多工業中有很大的應用價值。例如，利用其較高的硬度、低的摩擦系數、化學穩定性以及光學性能可以作為光學保護涂層和耐磨損材料。

　　為了進一步改善和發掘其潛在優異的性能，人們又對a-CNx 薄膜和DLC 薄膜實施了各種元素的摻雜，目前主要是針對摻O、N 的DLC 薄膜(a-CO:H 和a-CN:H) 和摻H 元素的a-CNx 薄膜(a-CN:H) 這兩種體系進行了研究，同時還研究了沉積參數對薄膜化學鍵結構、光學和電學等其他性能的影響。但是,對于同時含有O、N 元素的a-C:H 薄膜(a-CHON) ，這種復合體系非晶薄膜的制備和光學性能的研究還未曾報道，單一摻N 元素可以改善a-CN:H薄膜的機械性以及室溫電導率，而單一摻O 元素的a-CO:H薄膜隨O 元素摻雜量的增加具有較低的介電常數，且提高了薄膜的表面質量。如果能同時摻雜O、N 元素可以綜合改善會薄膜的生長質量、表面形貌、機械性能以及光電性能，通過調節合適的沉積參數，可以制備出我們預期想要某一性能的薄膜，而且對于O、N元素對薄膜的光學性能以及其他性能的影響機制還不清楚。因此，本文就著重研究了同時含有O、N元素的a-CHON 薄膜的合成與制備，以及相關沉積參數對薄膜生長、表面形和光學性能的影響。

　　本工作采用射頻等離子體化學氣相沉積(RFPECVD)方法制備a-CHON薄膜，其等離子體源為射頻電感耦合，即ICP，這種等離子體源相比傳統的電容耦合等離子(CCP) ，在放電區域有更高的等離子體密度，不僅提高了沉積速率，還縮短了實驗周期時間。制備出的薄膜，通過膜厚的測量，原子力顯微鏡(AFM) 圖譜測試，紅外光譜以及紫外-可見-近紅外測試結果，主要研究了放電功率，這一重要參數對薄膜成長、表面形貌、化學鍵結構以及光學性能的影響，同時利用透射光譜和吸光度的測試結果，分析了放電功率對薄膜的內部電子結構及能帶的影響。

1、實驗

1.1、薄膜的制備

　　采用外置式電感耦合RF-PECVD 進行a-CHON薄膜的制備，其設備如圖1 示，其中電感線圈為中空銅管，并且通入冷卻水，以防止在輝光放電時溫度過高，射頻源輸出功率通過匹配器調節耦合到電感上,在一定真空度下通入氣體，通過電感上的高頻電場感應出高頻磁場和電場，加速氣體中電子與氣體原子發生碰撞，從而電離氣體原子，生成具有化學活性的等離子或粒子基團。反應氣體為CH4、N2、CO2 和H2( 99.99% ) ，其中CH4 和CO2 作為碳源，而氮源為N2，控制插板閥，將工作沉積氣壓維持在10 Pa，CH4/N2/ CO2/ H2 氣體流量比5B2B1B5，H2 氣體流量為10 mL/min(標準狀態) 。

圖1 ICP- PECVD 裝置示意圖

　　薄膜襯底為Si(111) 和拋光石英玻璃片，在放入真空室內之前，先將Si 片和石英玻璃片分別在洗滌溶液-丙酮-四氯化碳-無水乙醇中，用超聲波電源各超聲清洗10 min，另外Si片還要在HF 溶液中腐蝕清洗1min，之后分別吹干Si 片和石英片，然后放入真空室中，采用分子泵和機械泵將真空室的真空度抽到2 × 10^-3 Pa 以下。在輝光放電沉積薄膜之前,先單獨通入10 mL/ min 的H2，氣壓保持3 Pa，輸入功率100W，輝光放電10 min，對襯底進行離子刻蝕清洗，去除表面因暴露在大氣環境中而吸附的氧或其他雜質，然后再通入反應氣體開始沉積薄膜，放電功率參數設置為8 個，分別為50，80，100，110，130，150，180 和200 W，沉積溫度為室溫，沉積時間為3 h。待薄膜沉積完后，自然冷卻，放掉真空，取出樣品。

1.2、薄膜的表征

　　本實驗采用臺階儀測試薄膜的厚度，再對比沉積時間得出沉積速率。采用AFM 進行觀察a-CHON薄膜的表面形貌；利用美國PE 儀器公司生產的傅里葉變換紅外光譜儀( FT-IR) 對薄膜進行紅外光譜測試，觀察其內部成鍵情況；薄膜的透射率和反射率是通過日本島津公司生產的UV-3150 紫外、可見-近紅外分光光度計來獲得，并利用相關公式求出薄膜的光學帶隙和吸收系數以及在550 nm 光波下薄膜的折射率。

結論

　　采用外置電感耦合RF-PECVD制備了a-CHON薄膜，探討了成膜速率與放電功率之間的關系，結果發現沉積速率隨放電功率的提高而增加；AFM 測試表明薄膜的表面粗糙度受放電功率有一定的影響,150 W 制備的薄膜表面較為粗糙；紅外光譜測試表明O元素是以C-O或C=O摻入薄膜內部的；通過對a-CHON 薄膜光學性能測試，結果表明，薄膜在紫外光區有很高的吸收，而對可見光區和紅外光區有較高的透射率；薄膜的吸收系數計算結果表明了不同放電功率制備的薄膜在入射光250~ 2400nm 范圍內存在3個吸收區；Tauc公式計算結果表明，a-CHON薄膜的光學帶隙隨放電功率的增加而逐漸減小；不同功率下制備的薄膜，在可見光區的折射率隨入射光頻率的減小而增大，出現反常色散關系，而在某一波長(550 nm) 的折射率先隨放電功率的增加而減小，而后又有所增加。