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真空技術應用

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推薦真空熱水鍋爐的構造特點

真空熱水鍋爐的結構是由燃燒室(火爐)、水管、負壓蒸汽室、熱交換器、熱媒介水等組成的。本文以雙回路真空熱水鍋爐為例講述真空熱水鍋爐的構造特點。

離子推力器電子反流的理論預測與試驗測量

對離子推力器來說，加速柵的作用是提供一個負的電勢壁壘，阻止下游的電子反流到放電室內部。反流電子流不僅會導致推力器能量損失，嚴重的甚至會導致推力器無法工作。
空氣中微波擊穿電場的計算

本文采用擴散控制的微波擊穿模型, 計算了低氣壓空氣的微波擊穿電場。為獲得簡單而直觀的計算方法, 利用了直流場中的氣體放電基本參量, 給出了微波擊穿電場的計算過程。
使用ANSYS接觸單元模擬研究行波管收集極的接觸熱阻

收集極是行波管的主要發熱部件, 本文利用ANSYS對某行波管的四級降壓收集極進行了熱分析, 其中利用了ANSYS中的接觸單元CONTA172和TARGE169來模擬收集極各零件間的接觸熱阻。
溝道長度及源/漏區摻雜濃度對MOS-CNTFET輸運特性的影響

碳納米管場效應晶體管電子輸運性質是其結構參量(縱向結構參量: 如CNT的直徑、柵介質層厚度、介質介電常數等; 橫向結構參量: 如溝道長度、源/漏區摻雜濃度等)的復雜函數。
PDP子場數據自適應優化低功耗尋址方法

為降低等離子體顯示器(PDP)的尋址功耗, 在分析PDP尋址功耗和圖像信息在各子場分布特征的基礎上, 根據人眼視覺在不同背景亮度下對圖像信息感知能力不同的特點, 提出了子場數據自適應優化低功耗尋址方法。
新型反射腔在多頻相對論返波振蕩器中的粒子模擬研究

設計了兩類新型同軸反射腔并成功地應用于多頻高功率微波輸出。反射腔采用非對稱的同軸結構, 置于同軸相對論返波振蕩器( CRBWO) 慢波系統的前端。
金屬離子源磁過濾器磁場位形的設計與實驗研究

根據磁過濾器對磁場的要求, 利用水冷銅管產生的反向磁場, 設計一個軸向磁場較弱的磁鏡式磁過濾器。
SOI高g值壓阻式加速度傳感器與工藝實現

基于SOI技術, 利用電感耦合等離子體硅深加工，設計制備了一種新型平面內振動高g值壓阻式加速度計。
用于石油鉆井磨料射流噴嘴的研制

采用模壓及真空燒結試制了一種磨料射流噴嘴，用掃描電鏡觀察其組織形貌，并進行硬度和密度的測量。
人工干預二次形核研究

采用直流熱陰極PCVD技術，在CH4- H2 氣氛常規制備微米晶金剛石膜的參數條件下，通過人工干預實現二次形核，制備納米晶金剛石膜。
熱解一維鏈狀銅絡合物單晶制備納米氧化銅

采用X- 射線衍射（XRD）、熱重（TG）分析和透射電子顯微鏡（TEM）等手段表征了銅絡合物單晶在900℃下焙燒后的產物。
高分子涂層制備技術研究進展

本文綜述了高分子涂層的制備，發現其制備方法具有多樣性，但多在大氣環境中進行，存在高溫分解、涂層內應力大和襯底結合力差等問題。
低壓壓印制備硅點陣結構的工藝研究

本文介紹了一種以低壓壓印結合反應離子刻蝕制備硅點陣的方法，即利用PDMS模板通過壓印復制獲得PMMA掩模結構，用反應離子刻蝕在硅片表面制得高度有序的硅納米點陣結構。
基于PDMS微結構模板轉印技術的研究

基于界面間粘附能理論，結合有限元模擬研究聚二甲基硅氧烷(PDMS)微結構模板實現聚合物SU-8光刻膠的圖形轉移復制的轉印機理，分析了微結構轉印過程中基底表面能、壓力和SU-8膠溶劑對圖形轉印的影響。
冷噴涂Cu-Cu2O涂層微觀結構與沉積特性

本實驗通過冷噴涂技術制備了Cu2O的質量含量分別為0%，10%，20%和30%的四種Cu-Cu2O涂層。
磁耦合定向耦合器仿真設計

在分析波導中場模式基礎上，通過仿真計算和優化，得出影響定向耦合器磁耦合的主要因素，并在此基礎上提出利用磁環耦合設計雙耦合度定向耦合器和可變耦合度的定向耦合器的設想。
多注行波管PPM聚焦磁場設計方法研究

對多注行波管周期永磁(PPM)聚焦結構中橫向磁場的分布規律進行了研究, 模擬分析了多注PPM聚焦系統中橫向場的旋轉對稱特性, 并對該系統中的電子流通率進行了分析。
不同壓強時等離子體宏觀不穩定性的數值模擬

為了數值模擬不同等離子體壓強和不同角向模數時，磁流體不穩定性的演化規律，本文通過傅里葉變換，將理想磁流體方程組轉化為兩個一階微分方程。
雙微通道板紫外像增強器工作特性研究

為了研究雙微通道板(MCP)對紫外像增強器輻射增益的影響,本文利用南京理工大學制造的寬光譜像管增益測試儀,對單MCP和雙MCP紫外像增強器的輻射增益分別進行了測試分析。
NbSe2固相合成中的微量氧對形貌的誘導

通過對固相合成NbSe2過程中特殊形貌的產生, 嘗試提出微量氧誘導機制。