真空裝置在制造過程中，零件表面不可避免地會沾上油脂、汗痕、拋光膏、焊劑、金屬屑、油垢等污染物，同時，污染物在大氣壓下吸附了大量的氣體，在真空環(huán)境中，這些氣體被釋放出來，構(gòu)成了限制真空設(shè)備極限真空的因素。

        真空裝置在使用過程中，受使用條件的影響，零件還會受到污染，如真空干燥系統(tǒng)，經(jīng)常會受到蒸發(fā)物質(zhì)的污染；真空鍍膜機的內(nèi)壁會被蒸鍍材料污染；離子束刻蝕設(shè)備的內(nèi)壁會被濺射物污染；真空中電子槍的燈絲，由于高溫蒸發(fā)會使其附近表面形成金屬膜；真空系統(tǒng)中的機械泵油和擴散泵油更是污染源，會使設(shè)備在長期工作后內(nèi)部形成油膜。這些污染同樣會影響設(shè)備的性能。

        在各類真空工藝生產(chǎn)中，例如，電真空工藝、真空鍍膜工藝、真空焊接工藝等都十分重視真空衛(wèi)生問題。在電真空工藝中，要求裝配到高真空環(huán)境中的零件，事先都必須進行認真清洗，否則各種污染物可成為大量氣體和蒸汽的來源，會延長真空器件的排氣時間，不易獲得高真空。在真空鍍膜技術(shù)中，基片（襯底）表面的清潔處理也十分重要，暴露于大氣中的襯底表面普遍受到污染，吸附現(xiàn)象、化學(xué)反應(yīng)、浸析和干燥、機械處理以及擴散和離析過程都會使各種成份的表面污染物增加。基片表面在鍍膜之前必須是清潔的，否則鍍層與表面將不能很好地粘附。

         環(huán)境污染對真空衛(wèi)生影響很大，環(huán)境污染物來自空氣、地板、墻壁、天花板、工作服的灰塵及棉絨等。為此，真空器件的一些特殊零部件的生產(chǎn)，都要求在清潔室或超潔凈室里進行。在電子管制造中，管子裝架和零件處理必須在封閉良好的潔凈室里進行，空氣必須經(jīng)過兩極或多極過濾，相對濕度保持在5 0 % 以下。真空衛(wèi)生涉及到真空系統(tǒng)的各個方面，涉及到真空裝置本身及其對周圍環(huán)境的要求。這是一個值得重視的問題。

真空室污染物的幾種類型

（1）油脂：加工、安裝和操作過程中沾染的潤滑劑、真空油脂等；

（2）水滴：操作過程中的手汗、吹玻璃時的唾液等；

（3）表面氧化物：易氧化材料長期暴露或放置在潮濕大氣中所形成的表面氧化物；

（4）酸、堿、鹽類物質(zhì)：清潔后的殘余物質(zhì)、手汗、自來水中的礦物質(zhì)等；

（5）空氣中的塵埃及其它有機物。