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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。

VOx/TiOx/Ti多層薄膜的制備工藝與內耗研究

用磁控反應濺射法在玻璃和鉬片襯底上制備VOx/TiOx/Ti多層薄膜。用X射線衍射(XRD)、QJ31單臂電橋、薄膜內耗儀等測試了薄膜的晶體結構、電阻、內耗。
一種全自動超高真空電子束蒸發薄膜生長系統

由于薄膜生長均勻、沉積速率和膜厚易控、可制備大面積薄膜等特點，電子束沉積技術在超導薄膜、多層巨磁阻薄膜、超晶格薄膜中得到了深入研究。
氧離子束流密度對Ta2O5薄膜的影響

研究了低能量離氧子束流密度在離子輔助電子束蒸發沉積Ta2O5薄膜中的作用.
熱處理工藝對H13鋼組織和力學性能的影響

本文比較了H13鋼經鹽浴分級淬火和真空高壓氣淬的淬火態的力學性能,分析了造成力學性能差異的原因。
真空鍍鋁紙與薄膜的氣體透過率測試方法

作為阻隔性材料的真空鍍鋁紙和膜，通常以氧氣透過率和水蒸氣透過率兩項指標來考核其阻隔性能。
準分子激光引起的非晶硅薄膜晶化行為的研究

利用KrF準分子激光對非晶硅薄膜的表層進行了晶化。研究了激光能量密度和照射脈沖數對薄膜結晶度的影響，并對晶化后薄膜的形貌和結構進行了表征。
塑料表面濺射電磁屏蔽膜的研究

本文采用磁控濺射技術在聚酯塑料上制備出附著力大于5MPa、2GHz~4GHz頻率范圍內屏蔽效能大于60dB的復合結構的電磁屏蔽膜，并研究了導電膜、導磁膜及其復合膜層的電磁屏蔽特性。
基底溫度對四元疊層硒化法制備銅銦鎵硒(CIGS)薄膜的影響

利用四元疊層硒化法制備了銅銦鎵硒（縮寫為CIGS）薄膜，重點分析了在疊層法制備CIGS薄膜過程中，基底溫度對CIGS薄膜的晶體結構，表面形貌以及各種元素沿深度分布的影響。
不同測試條件下TiN薄膜的摩擦學特性研究

采用電弧離子鍍技術在45#鋼襯底表面沉積了TiN薄膜。用不同的儀器測試了在不同條件下TiN薄膜的摩擦學特性。
PI襯底上電沉積Cu薄膜的晶面擇優取向

采用硫酸鹽電沉積法，利用X 射線衍射儀(XRD)、掃描電鏡(SEM)等手段研究了不同電沉積條件下在PI膜表面制備的Cu薄膜的晶面擇優取向、平均晶粒尺寸及表面形貌。
SiO2薄膜制備的現行方法綜述

SiO2薄膜的現行方法主要有磁控濺射、離子束濺射、化學氣相沉積、熱氧化法、凝膠－溶膠法等。本文系統闡述了各種方法的基本原理、特點及適用場合，并對這些方法做了比較。
直流反應磁控濺射在3003鋁箔表面制備薄膜的研究

為有效提高3003鋁箔表面光澤度、比面積及強硬度，采用直流反應磁控濺射的方法，在一定濺射參數條件下，選用高純鉬靶和鈦靶對3003鋁箔進行濺射實驗。
基于PLC的真空蒸發廢油處理自動控制

本文介紹了PLC 在廢油處理設備自動控制系統中的應用。主要介紹了真空蒸發工藝及PC—PLC控制系統的主要功能等。
寬光譜監控法鍍制高精度增透膜的研究

本文介紹了使用寬光譜監控系統鍍制增透膜的基本原理和技術特點，寬光譜光學鍍膜監控系統在鍍制寬帶增透膜等寬帶產品方面具有特有的優勢。
制鹽工業水泵與風機起動方式的選擇

介紹了電動機全壓起動的優點，對全壓起動和各種降壓起動的特點進行分析比較，同時介紹了起動方式選擇要點及起動方式選擇誤區。
電磁熱泵技術在真空制鹽中的應用及其節能研究

電磁熱泵具有泵和電機之間無軸傳動、安全靜密封、永不泄露及一體化的特點。本文在簡要介紹電磁熱泵技術性能和特點的基礎上將其創造性的應用于真空制鹽系統中，從而達到節能目的。
一種嶄新的鍍膜技術——等離子體束濺射

詳細描述一種等離子體高效濺射系統及應用工藝。此種嶄新的濺射技術結合了蒸發鍍的高效及濺射鍍的高性能特點, 特別在多元合金以及磁性薄膜的制備, 具有其他手段無可比擬的優點。
新型等離子體束濺射鍍膜機

本文介紹了新型的等離子體束濺射鍍膜機的系統組成、特點、試驗結果等內容。該鍍膜機將等離子體發生和控制技術應用于濺射鍍膜中，克服了磁控濺射的靶材利用率低及難以沉積鐵磁性材料的缺點。
電子束蒸發制備CdS多晶薄膜及性質研究

采用電子束蒸發工藝在普通玻璃襯底上制備了硫化鎘(CdS) 多晶薄膜,研究了不同襯底溫度對薄膜結構、表面形貌及光透過率的影響。
固溶體半導體Zn1-xMgxS薄膜性質研究

以ZnS、Mg粉末為原料,應用雙源真空蒸鍍法,在石英玻璃襯底上成功地制備了不同Mg含量x的三元固溶體半導體Zn12xMgxS 薄膜。