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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。

環境壓強對電刷鍍In/Ni固體潤滑涂層摩擦學性能的影響

為了探索軟金屬銦在真空環境中的潤滑性能, 用電刷鍍技術在45#鋼表面制備了In/Ni復合固體潤滑涂層, 并對比研究了該復合鍍層在大氣環境、低真空環境和高真空環境下的摩擦學性能和磨損機制。
速調管雙耦合孔輸出腔外觀品質因數的計算

提出了一種采用散射參數S21曲線來計算速調管雙耦合孔輸出腔外觀品質因數的方法。
含鈦MoS2合金減摩鍍層摩擦學性能研究

應用閉合磁場非平衡磁控濺射離子鍍技術, 制備了不同Ti含量的MoS2合金減摩鍍層, 研究了添加元素Ti含量對鍍層厚度、硬度、摩擦系數等的影響規律。
含Ag2O型高密度聚乙烯基真空蒸鍍復合膜的抗菌性研究

本文通過真空蒸鍍法制備得到含銀型高密度聚乙烯(HDPE)基抗菌復合膜(Ag2O/HDPE) , 利用原子力顯微鏡、掃描電子顯微鏡及原子吸收光譜法測試手段對膜進行了表征, 并考察了復合膜的抗菌動力學和抗菌長效性, 以及對細菌的
Zr/Nb薄膜材料的制備及界面結構研究

通過直流磁控濺射法在單晶Si(100) 基底上制備了Zr/Nb/Si薄膜材料。
U及Si基表面TiAl薄膜的制備及組織結構研究

利用Gibbs自由能判據計算了室溫和1000 K溫度下TiAl體系非晶形成成分區間。
金屬/半導體肖特基接觸模型研究進展

在分析理想金屬/ 半導體肖特基接觸的基礎上, 概述了一般情形下肖特基接觸的形成機理和影響因素。
有機光電器件ITO陽極表面改性及其時效性研究

采用射頻氧等離子體(RFOP)處理對氧化銦錫(ITO)薄膜表面進行改性, 通過原子力顯微鏡、X射線光電子能譜、X射線衍射儀和接觸角儀等測試表征, 研究了改性對ITO表面性質的影響。
基于相空間方法的電子轟擊離子源參數對其性能影響的研究

利用離子光學模擬軟件SIMION7.0, 對自制的電子轟擊離子源(EI) 進行模擬試驗, 獲得離子在EI內的運動參數, 包括位置、速度。
濺射氣壓對碳化釩薄膜微結構與力學性能的影響

采用碳化釩靶的磁控濺射方法在不同的Ar氣壓下制備了一系列碳化釩薄膜, 利用能量分析光譜儀, X射線衍射,掃描電子顯微鏡, 原子力顯微鏡和微力學探針研究了氣壓對薄膜成分、相組成、微結構以及力學性能的影響。
分子動力學模擬不同入射能量的CH與碳氫薄膜的相互作用

使用分子動力學方法模擬低能CH與碳氫薄膜的相互作用, 以探討在核聚變過程中CH的再沉積行為及對面向等離子體材料性質變化的影響。
薄膜厚度對TGZO透明導電薄膜光電性能的影響

利用直流磁控濺射法, 在室溫水冷玻璃襯底上成功制備出了可見光透過率高、電阻率低的鈦鎵共摻雜氧化鋅( TGZO) 透明導電薄膜。
K417高溫合金電磁攪拌法真空晶粒細化技術研究

使用X射線衍射分析儀、掃描電鏡、電子拉伸試驗機、高溫金相顯微鏡研究了在模殼內壁表面的涂層中添加孕育劑鋁酸鈷和在真空熔鑄過程中施加工頻旋轉電磁攪拌對K417高溫合金真空精密鑄件凝固組織和性能的影響。
對中真空條件下鋁蒸氣相變形核及冷凝的研究

在中真空條件(18~50Pa)下, 從原子碰撞與碰撞凝聚的角度分析系統溫度、鋁分壓及冷凝區溫度梯度對鋁蒸氣相變形核及冷凝的影響。
氣相沉積硅薄膜微結構及懸掛鍵缺陷研究

在單晶Si(100)基體上利用電子回旋共振等離子體增強化學氣相沉積法制備硅薄膜, 并采用X射線衍射譜(XRD)、透射電鏡(TEM)、Raman光譜、電子自旋共振(ESR)波譜等實驗方法研究了不同Ar流量下硅薄膜微結構及懸掛鍵密度的變
鹿茸的凍干新工藝及性質

介紹了鹿茸片和整枝鹿茸的冷凍真空干燥實驗。
真空熱處理對鍍Al薄膜NdFeB磁體組織和耐蝕性的影響

用直流磁控濺射工藝, 在NdFeB磁體表面鍍Al薄膜, 并對鍍Al薄膜的磁體進行真空熱處理, 研究工藝、溫度和時間對鍍層成分、組織和性能的影響。
激光熱處理對類金剛石薄膜結構的影響

用真空陰極過濾電弧法沉積了厚度為2nm的類金剛石(DLC)薄膜, 研究了激光加熱退火時薄膜結構和表面粗糙度的變化, 分析了激光加熱功率對薄膜結構的影響。
FG型真空絕熱板使用壽命評估

真空絕熱板( VIP) 的使用壽命是目前研究者和使用者最為關注的問題之一, 如何有效保證其在長期使用過程中依然保持高性能熱阻需要進行理論和試驗研究。
真空卷繞鍍膜機開卷張力控制系統研究

闡述了在真空卷繞鍍膜機中張力控制的必要性和復雜性。