采用射頻氧等離子體(RFOP)處理對氧化銦錫(ITO)薄膜表面進行改性, 通過原子力顯微鏡、X射線光電子能譜、X射線衍射儀和接觸角儀等測試表征, 研究了改性對ITO表面性質的影響。實驗結果表明, RFOP處理優化了ITO表面的化學組分, 提高了ITO表面的平整度, 改善了ITO表面的物理化學性質。同時, 通過接觸角監測和表面能計算, 研究了ITO表面RFOP改性的時效性, 結果證實, ITO表面優化后的物理化學性質隨存放時間增加而逐漸退化。另外, 采用改性后不同存放時間的ITO襯底作為陽極, 制備了有機發光器件, 通過測量光電特性, 進一步研究了ITO表面性質對器件性能的影響。

　　氧化銦錫( indiumtin oxide, ITO) 作為一種重要的透明導電氧化物半導體材料, 它不僅具有穩定的化學性質, 而且具有優良的導電性能和光透射率, 因此被廣泛應用于平板顯示器件、太陽能電池、激光器
和傳感器等有機光電器件之中 。對于有機太陽能電池( organic solar cells, OSC) 和有機發光器件( organic light emitting device, OLED) , 它們的典型結構為三明治型的夾心結構, 即一層或多層有機功能層被夾在上下兩個電極之間, 其中陰極常常選用低功函的金屬材料, 而陽極則大多采用透明的ITO 導電玻璃。由于這類器件的光電性能在很大程度上受到ITO 陽極表面性質的影響, 因此, 商用ITO 導電玻璃用于制作OSC 或OLED 器件之前, 通常需要采用適當的方法對ITO 薄膜表面進行處理, 通過優化其表面性質來提高器件的光電性能。迄今為止,用于ITO 表面改性的方法可以分為干法處理和濕法處理兩種類型, 其中, 干法處理通常采用各種電離氣體等離子體( 如Ar, N2, H2, SF6 等) 對ITO 表面進行濺射清洗, 來去除其表面污染, 改善其表面形態; 而濕法處理則通過不同的有機溶劑在ITO 表面鍵合新的基團, 以達到對其表面進行改性的目的。

　　盡管人們對ITO 表面處理進行了較為廣泛的研究,但是這些研究仍然主要集中在ITO 功函數、載流子注入等電學性質方面, 而對ITO 表面浸潤性、表面能等物理化學性質的研究則相對較少。本文采用射頻氧等離子體( RFOP) 處理對ITO 薄膜進行表面改性,利用多種測試技術表征了改性對ITO 性質的影響,并通過接觸角測量和表面能計算研究了ITO 表面RFOP 改性的時效性, 同時采用RFOP 處理后不同存放時間的ITO 薄膜作為陽極制備了OLED, 進一步研究了ITO 表面性質對器件性能的影響。

3、結論

　　利用RFOP 處理對ITO 薄膜進行表面改性, 采用多種表征方法研究了表面改性對ITO 性質的影響。AFM 測試結果表明RFOP 處理減小了ITO 表面顆粒和表面粗糙度, 改善了ITO 的表面形態。XPS分析結果顯示RFOP 處理有效去除了ITO 表面的有機污染, 優化了ITO 表面的化學組分。接觸角測量和表面能計算發現, RFOP 處理降低了ITO 表面的水接觸角, 提高了ITO 的表面能和極性分量, 顯著改善了ITO 表面的物理化學性質, 但優化過的物理化學性質卻隨存放時間增加而逐漸退化。另外, OLED測試結果表明, 器件性能與ITO 表面處理后的存放時間密切相關, ITO 表面性質通過影響ITO/有機層界面特性進而影響器件的光電性能。