CVD法制備單根磷摻雜P型ZnO納米線

2009-12-22 顧磊磊 復旦大學材料科學系

  本文采用化學氣相沉積法(CVD)制備了磷摻雜p型ZnO納米線,并且用掃描電子顯微譜(SEM),拉曼譜(RM),X光衍射譜(XRD)以及光致發光譜對其性質進行表征;通過“lift-off”法制備了單根磷摻雜ZnO納米線的場效應管,并對其電學性質進行表征,納米線的載流子濃度和遷移率分別為1.51 109cm-1 和0.803 cm2/(VS)。

  ZnO是一種II-V I族直接寬禁帶化合物半導體材料,室溫下, 其禁帶寬度為Eg=3.37 eV,激子束縛能為60 meV(GaN 21 meV), 激子增益也可以達到320 cm-1。ZnO的這些特殊的光電性質使其成為理想的室溫短波長發光器件材料,有望開發出ZnO基紫外探測器、發光二極管(LED)、半導體激光器(LD)等,可廣泛用于光通信網絡、光電顯示、光電儲存、光電轉化和光電探測等領域。此外,ZnO納米結構種類豐富,制備工藝簡便,因而在納米電子學、納米光電子學以及生物科技方面有很好的應用潛能。目前,一些功能器件,如基于單根納米線的場效應管[1]、生物探測器以及基于納米陣列的納米激光器已被制備出來。但是,要獲得更多的功能器件,良好的p型ZnO納米線和良好的n型ZnO納米線都是不可或缺的。本征的ZnO納米線由于本征缺陷(氧空位Vo,鋅間隙Zni)的存在,為電子導電,呈n型,良好的n型ZnO晶體比較容易獲得;p型ZnO納米線由于本征缺陷對受主雜質產生高度的自補償作用,難以實現p型轉變,缺乏良好的p型ZnO納米線已成為制約ZnO基納米器件發展的瓶頸。

1.實驗

  以ZnO粉末和石墨粉末(純度為99. 85 %)混合物作為反應源,以P2O5作為磷源,以高純氬作為載氣,在管式爐中進行反應,實驗裝置見圖1。采用p型(100)硅片作為基板,基板充分清洗后使用真空熱蒸發方法在硅片表面鍍一層約10 nm 厚的金膜,鍍膜時真空度為2×10-3Pa 。將摩爾比為1:3 的ZnO 粉末和石墨粉末的混合物放入一端開口的石英管底部,將基片也放入石英管,與反應源的距離為70mm ,將石英管放置于水平放置的管式電阻爐(SK2–4-10) 的恒溫區,密封端對著進氣口。

圖1 CVD 法制備磷摻雜ZnO 納米線的裝置圖

  反應時,先將石英管和磷源置于爐口,向電阻爐通80 sccm 流量的高純氬氣60min ,作為保護氣體,接著以25 ℃/ min 的速度將溫度加熱至945 ℃,溫度達到后,將石英管移至電阻爐中央的恒溫區,在945 ℃溫度下保持恒溫30 min進行反應,反應完成后,將石英管拖至爐口,停止反應,使樣品自然冷卻至室溫。取出樣品后發現基片區域有白色絮狀物質產生,即為所得磷摻雜ZnO納米線。

  反應機制為氣液固(VLS)機制,如下:Au膜受熱形成金液滴,ZnO被石墨還原形成Zn蒸汽,擴散至基板處,與氧源發生反應,在Au液滴的誘導作用下形成ZnO納米線,與此同時,P2O5受熱擴散至基板上方,被還原,形成磷蒸汽,隨著ZnO納米線的生長而摻雜進去。

方程式如下:

  反應源區域: ZnO + C →Zn (g) + CO(g)
  ZnO + CO(g) →Zn (g) + CO2 (g)

  基片區域: P2O5 + C →P (g) + CO(g)
  P2O5 + Zn →P (g) + ZnO(g)
  Zn (g) + CO2 (g) →ZnO + CO(g)

  (1-x) CO(g) + ZnO →ZnOx + (1-x) CO2 (g) (0<x<1)

  不加磷源,其它步驟完全相同,可以制備本征ZnO納米。

2、結果與討論:

2.1、SEM形貌表征

圖2 磷摻雜ZnO 納米線的SEM 圖

  樣品的掃描電子顯微鏡照片如圖2 所示,從中可以看到,制備得到的ZnO 納米線直徑約200-300 nm,長度在10 μm 以上。

2.2、Raman 表征

  圖3 樣品1 為本征的未經過退火處理的ZnO NWS;2 為P 摻雜的但未退火的ZnONWS;3 為經過退火處理的本征ZnO NWS; 4 為P 摻雜的且經過退火處理的ZnONWS;退火溫度800°C,退火時間5 分鐘,80 sccm 氬氣氛圍下波數在437cm-1 左右的峰為E2(high)聲子振動模[4-5],比較樣品1 和2 的Raman 圖,可見,樣品1 的E2(high)的峰位為436.64 cm-1,樣品2 的峰位為440.45 cm-1,摻雜后峰位藍移了3.81 cm-1,這是由于磷雜質摻入ZnO NWS,使ZnO 晶格的應力發生變化造成的[5],且磷原子多以填隙的方式存在于ZnO NWS 中,對晶格產生壓應力,從而使E2(high)峰位藍移。將樣品1 和2 分別退火得到樣品3 和樣品4,由圖中可見,樣品3 和4 的E2(high)峰位分別為436.84 cm-1 和439.86 cm-1,峰位藍移了3.02 cm-1,小于退火前的3.81 cm-1,這說明退火使部分磷原子擴散進入ZnO 晶格,發生替位,從而使部分壓應力得到釋放。

  波數在576 cm-1 左右的峰是ZnO 的A1(LO)聲子振動模[4-5],是由氧空位,鋅間隙,雜質等缺陷引起的峰。在本征的ZnO NWS 中看不到這個振動模式,說明這個峰不是由氧空位,鋅間隙等本征缺陷引起的,在退火前的磷摻雜納米線中也看不到這個峰,在退火后,這個峰才出現,這說明退火前,磷雜質是以填隙的方式存在的,尚未發生氧替位,退火過程中,磷原子取代氧原子形成新的化學鍵,從而出現新的振動模式。

  此外,在P摻雜且退過火的樣品中,在波數為556.53 cm-1 處,還出現了新的峰位,目前尚未發現有關此峰位出現的原因的報道,我們認為這個峰也是由摻雜引起的新的振動模。

  樣品1,2,3,4 的E2(high)的半高寬分別為15.288 cm-1、15.602 cm-1、18.303 cm-1、19.306 cm-1,比較樣品1 和2,E2(high)的峰的半高寬由15.288 cm-1變為15.602cm-1,展寬了0.314 cm-1;比較樣品3 和4,其E2(high)的峰的半高寬由18.303cm-1變為19.306 cm-1,展寬了1.003 cm-1。這說明磷雜質的摻入是納米線的晶格結構變差,從而使峰的半高寬展寬[4]