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真空應(yīng)用

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推薦電鍍污水中有機(jī)污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機(jī)污染物來(lái)源主要有3個(gè)方面：鍍前處理、電鍍過(guò)程和鍍后處理。污水中有機(jī)污染物的3種去除方法：生化法、微波化學(xué)法和物化法。

PDP子場(chǎng)數(shù)據(jù)自適應(yīng)優(yōu)化低功耗尋址方法

為降低等離子體顯示器(PDP)的尋址功耗, 在分析PDP尋址功耗和圖像信息在各子場(chǎng)分布特征的基礎(chǔ)上, 根據(jù)人眼視覺(jué)在不同背景亮度下對(duì)圖像信息感知能力不同的特點(diǎn), 提出了子場(chǎng)數(shù)據(jù)自適應(yīng)優(yōu)化低功耗尋址方法。
新型反射腔在多頻相對(duì)論返波振蕩器中的粒子模擬研究

設(shè)計(jì)了兩類(lèi)新型同軸反射腔并成功地應(yīng)用于多頻高功率微波輸出。反射腔采用非對(duì)稱(chēng)的同軸結(jié)構(gòu), 置于同軸相對(duì)論返波振蕩器( CRBWO) 慢波系統(tǒng)的前端。
金屬離子源磁過(guò)濾器磁場(chǎng)位形的設(shè)計(jì)與實(shí)驗(yàn)研究

根據(jù)磁過(guò)濾器對(duì)磁場(chǎng)的要求, 利用水冷銅管產(chǎn)生的反向磁場(chǎng), 設(shè)計(jì)一個(gè)軸向磁場(chǎng)較弱的磁鏡式磁過(guò)濾器。
35CrMo鋼表面化學(xué)氣相沉積多層硬質(zhì)涂層的結(jié)構(gòu)與性能研究

采用化學(xué)氣相沉積法在35CrMo鋼基表面制備多層硬質(zhì)涂層，并測(cè)試分析了涂層的組成結(jié)構(gòu)、粗糙度和表面力學(xué)性能。
以菱鎂石為原料鋁熱還原煉鎂的實(shí)驗(yàn)研究

對(duì)以菱鎂石為原料，以鋁粉為還原劑的真空熱還原煉鎂技術(shù)進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)研究，通過(guò)熱力學(xué)分析和對(duì)還原渣的物相分析，對(duì)鋁熱還原煅后菱鎂石的機(jī)理進(jìn)行了探討。
基于分形理論的玻璃纖維真空絕熱熱工特性研究

基于分形理論，描述了玻璃纖維多孔介質(zhì)材料微尺度空間結(jié)構(gòu)，建立分形等效單元體模型，分析了影響其真空下有效導(dǎo)熱系數(shù)關(guān)鍵因素。
SOI高g值壓阻式加速度傳感器與工藝實(shí)現(xiàn)

基于SOI技術(shù), 利用電感耦合等離子體硅深加工，設(shè)計(jì)制備了一種新型平面內(nèi)振動(dòng)高g值壓阻式加速度計(jì)。
用于石油鉆井磨料射流噴嘴的研制

采用模壓及真空燒結(jié)試制了一種磨料射流噴嘴，用掃描電鏡觀察其組織形貌，并進(jìn)行硬度和密度的測(cè)量。
人工干預(yù)二次形核研究

采用直流熱陰極PCVD技術(shù)，在CH4- H2 氣氛常規(guī)制備微米晶金剛石膜的參數(shù)條件下，通過(guò)人工干預(yù)實(shí)現(xiàn)二次形核，制備納米晶金剛石膜。
Cu含量對(duì)脈沖偏壓電弧離子鍍TiN-Cu納米復(fù)合薄膜硬度的影響

用脈沖偏壓電弧離子鍍技術(shù)在高速鋼基體上制備了一系列不同Cu含量的TiN-Cu納米復(fù)合薄膜，分別測(cè)試了薄膜的成分、形貌、相組成、硬度和彈性模量，重點(diǎn)考察薄膜成分對(duì)其硬度和彈性模量的影響。
一種新型楔形膜在真空中的制作方法及測(cè)試結(jié)果

提出了一種新型楔形膜在真空中的制作方法，可以替代白光干涉位移傳感器中的關(guān)鍵元件。
熱解一維鏈狀銅絡(luò)合物單晶制備納米氧化銅

采用X- 射線衍射（XRD）、熱重（TG）分析和透射電子顯微鏡（TEM）等手段表征了銅絡(luò)合物單晶在900℃下焙燒后的產(chǎn)物。
真空離子鍍鉻合金厚膜替代電鍍硬鉻工藝研究

離子鍍鉻合金厚鍍膜代替電鍍硬鉻工藝研發(fā)，已取得滿意成果，可以投入工業(yè)生產(chǎn)，可以向社會(huì)提供技術(shù)及專(zhuān)用設(shè)備。
高分子涂層制備技術(shù)研究進(jìn)展

本文綜述了高分子涂層的制備，發(fā)現(xiàn)其制備方法具有多樣性，但多在大氣環(huán)境中進(jìn)行，存在高溫分解、涂層內(nèi)應(yīng)力大和襯底結(jié)合力差等問(wèn)題。
低壓壓印制備硅點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)的工藝研究

本文介紹了一種以低壓壓印結(jié)合反應(yīng)離子刻蝕制備硅點(diǎn)陣的方法，即利用PDMS模板通過(guò)壓印復(fù)制獲得PMMA掩模結(jié)構(gòu)，用反應(yīng)離子刻蝕在硅片表面制得高度有序的硅納米點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)。
ZSN-800AG2電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)程序化自動(dòng)控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)

本文對(duì)ZSN-800AG2電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的控制系統(tǒng)進(jìn)行了設(shè)計(jì)，重點(diǎn)對(duì)應(yīng)用iFix 組態(tài)軟件實(shí)現(xiàn)工藝過(guò)程用戶可編程序化的動(dòng)控制方法設(shè)計(jì)以及數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和趨勢(shì)曲線顯示等做了設(shè)計(jì)分析，完成了整機(jī)的工藝試驗(yàn)。
Si90Al10Nx薄膜的工藝控制及光學(xué)性能研究

通過(guò)改變磁控濺射過(guò)程中氬氣與氮?dú)獾姆謮罕龋苽淞硕喾N不同厚度的Si90Al10Nx薄膜樣品，并采用透射率輪廓法對(duì)樣品在熱處理前后的光學(xué)性能進(jìn)行了測(cè)量和分析。
溫度對(duì)磁控濺射氮化鈦薄膜光學(xué)性能的影響

本文采用能量過(guò)濾磁控濺射技術(shù)，通過(guò)改變沉積溫度在玻璃襯底上制備了一系列TiN 薄膜。利用XRD進(jìn)行了物相鑒定，使用分光光度計(jì)、橢圓偏振光譜儀和四探針電阻儀測(cè)試了TiN 薄膜的光學(xué)性能。
光學(xué)加工中真空夾具設(shè)計(jì)及分析

為了在光學(xué)加工中快速、可靠地裝夾光學(xué)元件，設(shè)計(jì)了真空夾具，對(duì)該真空夾具引起光學(xué)元件變形量進(jìn)行了分析。
真空熱還原氧化鎂的理論分析與實(shí)驗(yàn)研究

通過(guò)對(duì)C、S i 和Al熱還原MgO的熱力學(xué)計(jì)算, 分析了不同條件下熱還原吉布斯自由能和反應(yīng)初始溫度的變化。