真空比對法校準(zhǔn)裝置的研究
真空比對法校準(zhǔn)裝置采用了動態(tài)直接比對法、靜態(tài)直接比對法和靜態(tài)膨脹法, 在一臺裝置上復(fù)合了三種方法, 滿足了拓寬量程的需求。該裝置可以1×105~5×10- 4 Pa 范圍內(nèi)的各類真空規(guī)進行校準(zhǔn), 是一種結(jié)構(gòu)簡單、操作方便、檢定效率高、實用性強的真空標(biāo)準(zhǔn)裝置。整套裝置由渦輪分子泵、校準(zhǔn)容器、副標(biāo)準(zhǔn)真空計和金屬膨脹閥等部件組成, 主要技術(shù)指標(biāo)符合國際標(biāo)準(zhǔn)化組織和國內(nèi)有關(guān)真空標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定。
真空校準(zhǔn)技術(shù)比較復(fù)雜,標(biāo)準(zhǔn)裝置造價比較昂貴。比對法真空校準(zhǔn)系統(tǒng)具有許多優(yōu)點, 它選用精度較高、性能可靠的真空計作為副標(biāo)準(zhǔn), 是一種結(jié)構(gòu)簡單、量程寬、造價便宜、操作容易的真空標(biāo)準(zhǔn)裝置, 其校準(zhǔn)的不確定度取決于合理的系統(tǒng)設(shè)計和選用的副標(biāo)準(zhǔn)的不確定度。以往需要用三種不同原理和不同結(jié)構(gòu)的真空標(biāo)準(zhǔn)裝置, 實現(xiàn)所需范圍內(nèi)的壓力校準(zhǔn)[1]。隨著技術(shù)的進步,特別是航天科技的發(fā)展, 為了提高工作效率, 解決大量真空計的校準(zhǔn)任務(wù),也更準(zhǔn)確的為航天型號服務(wù), 在分析國內(nèi)外同類標(biāo)準(zhǔn)的優(yōu)缺點的基礎(chǔ)上,研制了一臺新的真空計校準(zhǔn)裝置。該校準(zhǔn)裝置選用了動態(tài)直接比對法、靜態(tài)膨脹法和靜態(tài)直接比對法三種校準(zhǔn)方法實現(xiàn)了1×105~5×10-4 Pa 范圍內(nèi)真空規(guī)的校準(zhǔn),滿足了型號的不同需要。
1、理論分析和結(jié)構(gòu)設(shè)計
深刻理解真空物理理論是設(shè)計真空系統(tǒng)的基礎(chǔ), 在真空系統(tǒng)中, 氣體分子流場的分布是進行壓力測量、抽速測量及機械結(jié)構(gòu)設(shè)計時必須考慮的一個重要因素。比對法真空校準(zhǔn)裝置設(shè)計的關(guān)鍵部分為校準(zhǔn)室, 校準(zhǔn)室容器的形狀, 大小和容器中分子流場的分布情況直接關(guān)系到該校準(zhǔn)裝置的精度和穩(wěn)定性[2]。為此,對容器內(nèi)分子流場分布的情況進行了研究。在分布均勻, 等溫、各向同性的稀薄氣體狀態(tài)下, 氣體分子遵守麥克斯韋速度分布和余弦定律,壓力值才有明顯的物理意義, 兩個公式才能成立, 在球形容器中最適合于建立這種氣體狀態(tài)。文獻[3]給出了球形容器內(nèi)表面分子流密度分布曲線圖(如圖1所示,對校準(zhǔn)室的結(jié)構(gòu)設(shè)計具有指導(dǎo)意義。
圖1 球形容器內(nèi)表面分子流密度分布
對球形系統(tǒng)沿垂直方向, 從上到下將內(nèi)表面分成10 條測試帶, 見圖1,各測試帶上的平均入射分子流密度N(i 分子數(shù)/mm2) 與赤道附近的平均入射分子流密度N( 分子數(shù)/mm2) 相比為橫坐標(biāo)(Z軸)[4]。
從圖1 可以看出球形容器內(nèi)分子流分布狀況。即,在球形系統(tǒng)內(nèi)表面上,分子流場分布不完全均勻, 在入口附近分子流密度最大, 而在出入口與赤道之間較小。
校準(zhǔn)容器的結(jié)構(gòu)設(shè)計還考慮了表面積與體積之比應(yīng)盡可能的小, 故選用球形容器最理想,因為同樣大的體積球的表面積最小, 而且在容器中能夠建立起各向同性運動的分子流狀態(tài)。但球形容器造價高,加工比較復(fù)雜。如果選用圓筒型容器, 則要求筒長于筒徑之比不大于4。在設(shè)計校準(zhǔn)室的容積時,要大于連接到該容積被檢真空規(guī)總?cè)莘e的20 倍, 又要考慮容器太大、放氣量大、抽氣的時間長、計量測試的效率低。該裝置設(shè)計的校準(zhǔn)室容器總?cè)莘e22.4 L, 備有9 個標(biāo)準(zhǔn)法蘭接口, 同時可接5 個被校準(zhǔn)的真空規(guī), 經(jīng)過計算被接真空規(guī)的總?cè)莘e為0.12 L, 遠小于校準(zhǔn)室的容積。
5、結(jié)論
經(jīng)過性能測試,該真空比對法校準(zhǔn)裝置的主要技術(shù)指標(biāo)完全滿足了動態(tài)直接比對法、靜態(tài)膨脹法和靜態(tài)直接比對法三種方法校準(zhǔn)真空規(guī)的技術(shù)要求, 可以對1×105~5×10- 4 Pa 壓力范圍內(nèi)的各種真空規(guī)進行校準(zhǔn)。該真空校準(zhǔn)系統(tǒng)是一種方便而實用的日常校準(zhǔn)裝置,對航天型號的研制具有重要的保障作用。