磁控陰極濺射靶，它既是一個真空鍍膜機械零部件,同時也是一個電力電子元器件。從靶電源的使用角度出發，我們更加關注的是它的電氣性能。本文按照不同類型將其分類。

1. 按機械結構分

　　磁控靶根據機械結構和靶材形狀分類，主要有平面(矩形或圓形)磁控靶，同軸拄狀磁控靶(分為旋轉磁鋼或旋轉靶管以及“磁鋼上下移動“幾種方式)和環狀錐形磁控靶(S槍)等幾種。

2. 按平面靶材分

　　平面靶分為平面矩形磁控靶、平面圓形磁控靶和電弧-磁控兩用的復合結構平面靶。

3. 按磁場分

　　(1)磁控靶根據磁場形成方式的不同分為永久磁鐵(永磁式)和電磁鐵(電磁式)兩種。

　　(2)根據磁控靶在真空腔體排列分布位置的不同和磁極、磁力線分布狀況的不同，分為平衡磁控濺射和非平衡磁控濺射兩大類(非平衡磁控濺射可將等離子體擴展到遠離靶面處,提高異形工件表面膜層質量和大面積離子沉積效果);多靶閉合磁場非平衡磁控濺射系統可以獲得高的沉積速率和較高質量的薄膜。

　　(3)磁控濺射靶的非平衡磁場不僅可通過改變內外永磁體的大小和強度獲得，也有由兩組電磁線圈產生，或采用電磁線圈與永磁體混合結構;也有在陰極和基體之間增加附加的螺線管，用來改變陰極與基體之間的磁場，并以此來控制沉積中的正離子和原子的比例，達到最佳效果。