真空鍍膜電化學(xué)清洗知識(shí)

2015-09-29 真空技術(shù)網(wǎng) 真空技術(shù)網(wǎng)整理

　　電化學(xué)清洗是在真空鍍膜生產(chǎn)線上常用的一種表面凈化方法，分為兩種，一種是點(diǎn)解侵蝕，一種是電化學(xué)拋光。

　　電解侵蝕對(duì)于侵蝕時(shí)間和溶液的要求比較低，比化學(xué)侵蝕的效果更好，它分為陽(yáng)極和陰極，陽(yáng)極侵蝕是鍍件接陽(yáng)極，在50~60℃下通過(guò)氧氣氣泡的沖擊把氧化物去掉，而陰極侵蝕是鍍膜接陰極，通過(guò)氫氣把氧化物還原的同時(shí)由于氫氣溢出產(chǎn)生的沖擊力把氧化層去掉。

　　而陽(yáng)極侵蝕是最常用的方法，不過(guò)對(duì)于復(fù)雜的鍍件，會(huì)出現(xiàn)過(guò)度侵蝕和不均勻侵蝕的問(wèn)題，而陰極侵蝕雖然不會(huì)出現(xiàn)過(guò)度侵蝕，但會(huì)出現(xiàn)滲氫發(fā)脆。

　　電化學(xué)拋光的電解液和點(diǎn)解侵蝕是不一樣的，不過(guò)原理差不多，電化學(xué)拋光針對(duì)金屬的表面凈化效果更好，鍍件接陽(yáng)極，用面積大于鍍件5倍以上的銅或鋼接陰極，兩極之間距離50~120mm，讓電場(chǎng)集中到高點(diǎn)處使金屬表面的氧化層去除，達(dá)到電化學(xué)拋光凈化的效果，金屬鍍件表面會(huì)變得很均勻，有光澤。