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真空噴射霧化過程中噴嘴口的流動模型計算與數值分析
真空噴射霧化過程是真空噴射法制備高分子薄膜主要成膜過程,該方法主要是利用真空室內外較大的壓差使聚合物溶液通過噴嘴噴射霧化后分散成不計其數的高速運動的細小液滴到達基片形成高分子薄膜。
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沉積溫度對磁控濺射制備V-Al-Si-N硬質涂層結構及性能的影響
本文利用磁控濺射的方法通過改變基片溫度制備了不同沉積溫度的V-Al-Si-N涂層,并利用X射線衍射(XRD) 、掃描電鏡(SEM) 、納米壓痕儀和摩擦磨損試驗機對涂層的結構及性能進行了分析。
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