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推薦電鍍污水中有機污染物去除工藝

電鍍廢水中的有機污染物來源主要有3個方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機污染物的3種去除方法：生化法、微波化學法和物化法。

輔助PECVD的磁場模擬計算與分析

介紹了磁場輔助PECVD工作原理，磁場對沉積薄膜的影響。
充電式錘鉆的擺桿軸承真空熱處理工藝研究

充電式錘鉆的擺桿軸承真空熱處理工藝研究
透氣真空快速泥水分離技術室內模型試驗研究

透氣真空快速泥水分離技術適用于高含水率高粘粒含量疏浚淤泥的堆場處理,可以快速減小堆場中淤泥的體積,加速堆場的周轉利用,并能解決常規真空處理方法中存在的濾層淤堵問題。
FMI-I-600型釹鐵硼真空速凝爐冷卻強度對鑄帶組織的影響

研究了FMI-I-600 型釹鐵硼真空速凝爐冷卻強度對鑄帶組織的影響。
真空下從鋁土礦中直接提取鋁的研究

利用低價鋁氟化物歧化反應分解可以得到金屬鋁的特性,用焦炭作還原劑,在真空條件下,從鋁土礦中提取鋁進行了實驗研究.
專家系統中知識庫與工藝曲線動態修改的研究

介紹了精密復雜刀具真空熱處理專家系統中知識的表示和知識庫的構建；總結了影響真空熱處理工藝參數的因素
織構ZnO:Al與p-μc-Si:H薄膜接觸特性的研究

用PECVD法在不同織構ZnO:Al上沉積了p-μc-Si:H薄膜，研究了不同織構ZnO:Al 與p-μc-Si:H 薄膜的接觸特性
磁控濺射法制備BiFeO3/CoFe2O4多鐵性復合薄膜及其鐵電鐵磁性研究

用磁控濺射法在Pt/TiO2/SiO2/Si 襯底上成功制備了BiFeO3 (BFO)/CoFe2O4（CFO）層狀結構磁電復合薄膜，測試結果顯示此磁電復合薄膜在室溫下同時存在鐵電性和鐵磁性
中頻磁控反應濺射AlN薄膜及微觀結構研究

采用中頻磁控反應濺射工藝進行了氮化鋁薄膜的制備，對沉積速率、晶體結構和表面形貌與氮氣流量和濺射功率之間的變化關系進行了研究
微晶硅同質結薄膜太陽電池的數值模擬分析

采用太陽電池電容模擬軟件（簡稱SCAPS）對p-i-n結構的微晶硅同質結薄膜太陽電池進行了數值模擬。
多孔ZnO 薄膜結構與光學性能研究

采用sol- gel提拉法，以聚乙二醇(PEG2000)為模板劑，醋酸鋅為前驅體，乙醇為溶劑，二乙醇胺為絡合劑，在玻璃基片上生長了多孔ZnO 薄膜，利用SEM和紫外分光光度計分析了多ZnO 薄膜的表面形貌和光學性質。
硅摻雜類金剛石薄膜表面性能研究

使用原子力顯微鏡考察了硅摻雜類金剛石薄膜的表面形貌及粗糙度，同時分析了薄膜表面的粘附力和微觀摩擦力學性能。
磁控濺射法制備鐵氧體薄膜的界面結合強度研究

利用磁控濺射法在單硅晶基底和玻璃基底上沉積鐵氧體薄膜，采用AFM 觀察薄膜的微觀形貌，采用劃痕法測試薄膜的界面結合強度。
不同鋁摻雜量ZnO薄膜性能的研究

襯底溫度對AZO 薄膜電學性能的影響以及，鋁摻雜量不同、電阻率相同的AZO 薄膜的載流子濃度與遷移率的關系。
不同真空預冷壓力對生菜儲藏質量的影響

本試驗設置不同真空預冷壓力冷卻生菜，預冷后的生菜在4℃、濕度(85%)的情況下儲存兩周，然后測量在整個貯藏期中生菜的質量損失、維生素C、色差值變化。
真空絕熱板內部真空度的影響因素分析及改善措施

介紹了真空絕熱板的絕熱性能與板內真空度的關系，具體分析了影響真空度的因素。
鍍膜設備真空系統主泵的配置

真空系統是真空鍍膜設備的主要組成部分，其主泵的選擇對真空性能影響很大，真空鍍膜設備的發展要求真空性能清潔無油，動態抽速大.傳統的以油擴散泵為主泵的設備不能滿足要求.
物理氣相沉積(PVD)技術

物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)技術表示在真空條件下，采用物理方法，將材料源——固體或液體表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，在基體表面沉積具有某種特
磁控濺射技術無鉛金屬化技術在電子行業的應用

磁控濺射是一種物理氣相沉積技術，工藝本身是一種環保技術，膜材的適應性很廣，在綠色制造中由其明顯的技術優勢。
濺射工作氣壓對Fe/Si3N4多層膜微波磁性的影響

在不同的濺射氣壓下,采用連續磁控濺射制備了Fe/Si3N4多層膜,探討了濺射氣壓對多層膜微波磁性的影響