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脈沖輝光PECVD制備DLC薄膜的結構和性能研究
類金剛石碳膜以其優異的性能,諸如高電阻率、高硬度、低摩擦系數、良好的光學特性等顯示出良好的應用前景,越來越受到人們的關注.本文利用脈沖輝光PECVD在不同的脈沖電壓下成功地制備了DIE薄膜.
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離子束流和基底溫度對ZrN/TiAlN納米多層膜性能的影響
大部分多層膜的納米硬度與彈性模量值都高于兩種個體材料硬度的平均值,當輔助束流為5 mA時,多層膜硬度達到30.6 GPa.基底溫度的升高,會顯著降低薄膜的殘余應力,但對薄膜的硬度,摩擦系數沒有明顯影響.
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調制周期對TiB2/TiAlN納米多層膜機械性能的影響
利用射頻磁控濺射技術,在室溫下合成了具有納米調制周期的TiB2/TiAlN多層膜.分別采用表面輪廓儀、納米力學測試系統、多功能材料表面性能實驗儀和XRD,分析了調制周期對TiB2/TiAlN納米多層膜機械性能的影響.
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食品的真空和真空充氣軟包裝
真空包裝:將食品裝入包裝袋,抽出包裝袋內的空氣,達到預定真空度后,完成封口工序。真空充氣包裝:將食品裝入包裝袋,抽出包裝袋內空氣達到預定真空度后,再充入氮氣或其它混合氣體,然后完成封口工序。
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ZnO:Mn稀磁薄膜光學性質和鐵磁行為分析
采用脈沖激光沉積技術在藍寶石(α-Al2O3)襯底上制備了不同Mn摻雜濃度的ZnO薄膜.實驗結果表明,合適濃度的Mn的摻人,有利于ZnO:Mn薄膜(002)生長而不形成Mn的氧化物。
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GaN/Al2O3上Ge薄膜的CVD外延生長
本工作采用化學氣相淀積方法,以GcH4為反應氣源,以InN/CaN/Al2O3(0001)復合襯底作陪片,在CaN/Al2O3(0001)復合襯底上外延生長了Ge薄膜,并對生長機理進行了探討。
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食品真空干燥的特點與新老裝置的發展
真空干燥在食品工業中有廣泛的重要的應用,進幾年來,真空技術與微波加熱技術和其它干燥技術相結合,出現了一些新的真空干燥裝置類型,提出了我國應加快研制開發真空微波干燥裝置的新觀點。
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