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非晶Ni-Al-N薄膜用作Cu互連阻擋層的研究

以一種新的三元非晶化合物薄膜作為Cu 互連的阻擋層, 采用射頻磁控濺射法構(gòu)架了Cu(120 nm) / Ni-Al-N(10nm) /Si的異質(zhì)結(jié)。

94 GHz TE02模回旋管Vlasov 模式變換器的設(shè)計與模擬

研究并設(shè)計了一個由Vlasov 階梯型開口輻射器、橢圓面反射器和拋物面反射器組成的TE02模回旋管準光模式變換器。

后柵型場發(fā)射顯示器竄壓現(xiàn)象的研究

提出后柵型場發(fā)射顯示器( FED) 測試過程中的竄壓現(xiàn)象, 解釋該現(xiàn)象的產(chǎn)生原因。

蔭罩式PDP掃描電極和蔭罩對陽極條紋的影響

本文采用基于動力學(xué)模型的OOPIC 仿真軟件模擬具有不同掃描電極寬度和蔭罩結(jié)構(gòu)的蔭罩式等離子顯示器 ( PDP) 放電單元內(nèi)的放電過程, 分析單元內(nèi)的條紋數(shù)量、分布狀態(tài)和介質(zhì)層表面壁電荷分布情況, 研究掃描電極寬度和

基于宏單元實驗的蔭罩式PDP結(jié)構(gòu)的優(yōu)化

分析了蔭罩式等離子體顯示板( SMPDP) 的優(yōu)點和存在的不足, 以提高PDP放電效率為目的, 提出了非對稱SMPDP結(jié)構(gòu)。

新型槽式跟蹤太陽能集熱器的中高溫?zé)崂�用研�?/a>

電子束焊接：極窄的焊縫和可靠的連接

對于很深而且很窄的平面焊縫時，電子束焊接技術(shù)是一個非常可靠的工藝。它可以把角度變形和橫向收縮量及其它一些非理想的影響減到最小。

真空磁控濺射法沉積平板集熱器板芯選擇性吸收涂層

介紹了采用真空磁控濺射技術(shù)在平板集熱器板芯上沉積選擇性吸收涂層，提高平板集熱器的集熱效率和使用的耐候性。

工業(yè)鋰蒸餾爐研發(fā)

對真空蒸餾法獲取高純鋰的工作原理，工藝路線，設(shè)備結(jié)構(gòu)及使用性能進行了全面系統(tǒng)地論述

基于DIABEAM法的電子束能量密度測試分析

為了充分發(fā)揮電子束焊接技術(shù)在航空航天領(lǐng)域的作用,對反映束流品質(zhì)的關(guān)鍵因素—電子束能量密度開展了研究;基于法拉第傳感原理,通過DIABEAM測試法對真空電子束焊機電子束能量密度分布進行測試分析。

自支撐金剛石厚膜脫離基體前后的殘余應(yīng)力研究

運用ANSYS軟件建立了有限元模型，對直流等離子體噴射制備的自支撐金剛石厚膜在脫離基體前、后的殘余應(yīng)力分別進行了數(shù)值模擬。

陶瓷真空滅弧室產(chǎn)品性能檢測系統(tǒng)研制

針對陶瓷真空滅弧室的產(chǎn)品性能檢測要求，研制了一套基于IPC+PLC+智能儀表的計算機自動產(chǎn)品性能檢測系統(tǒng).

透氣真空快速泥水分離技術(shù)室內(nèi)模型試驗研究

透氣真空快速泥水分離技術(shù)適用于高含水率高粘粒含量疏浚淤泥的堆場處理,可以快速減小堆場中淤泥的體積,加速堆場的周轉(zhuǎn)利用,并能解決常規(guī)真空處理方法中存在的濾層淤堵問題。

真空絕熱板內(nèi)部真空度的影響因素分析及改善措施

介紹了真空絕熱板的絕熱性能與板內(nèi)真空度的關(guān)系，具體分析了影響真空度的因素。

電泳和電鍍法增強碳納米管場發(fā)射特性的研究

采用電泳電鍍方法制備CNT冷陰極,有效改善了CNT與襯底間接觸電阻,增強了碳納米管場發(fā)射性能。

大氣壓下冷等離子弧制備SiOx涂層超疏水表面

采用冷等離子弧在大氣壓下以六甲基二硅氧烷為單體制備SiOx超疏水薄膜,研究不同工藝參數(shù)對薄膜的結(jié)構(gòu)性能影響。

輝光等離子滲氮對純鈦鑄件表面性能的影響

使用NH3 在氮化爐中對純鈦鑄件進行輝光等離子滲氮

真空絕熱板(VIP)絕熱性能及其影響參數(shù)分析

真空絕熱板（VIP）具有10倍于傳統(tǒng)絕熱材料的優(yōu)異絕熱性能。

LED背光源亮度均勻性改善方法

提出了一種LED非均勻排列提高背光源亮度均勻性的方法

真空玻璃在節(jié)能住宅的應(yīng)用前景

從門窗入手，對比分析真空玻璃與中空玻璃的性能