真空應(yīng)用
推薦電鍍污水中有機(jī)污染物去除工藝
電鍍廢水中的有機(jī)污染物來源主要有3個(gè)方面：鍍前處理、電鍍過程和鍍后處理。污水中有機(jī)污染物的3種去除方法：生化法、微波化學(xué)法和物化法。
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大型臥式真空退火爐的研制
該大型臥式真空退火爐是用于鈦、鋯等稀有金屬管材退火的設(shè)備，退火工件最長(zhǎng)尺寸為16 m，是國(guó)內(nèi)長(zhǎng)度和容量最大的真空退火爐。
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紅外增透保護(hù)薄膜的研究及應(yīng)用
揭示了紅外增透保護(hù)膜的氣動(dòng)熱/力失效機(jī)制，提出抗氣動(dòng)熱/ 力失效多光譜紅外增透保護(hù)膜的概念和利用反濺輔助實(shí)時(shí)強(qiáng)化紅外增透保護(hù)膜的方法
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納米結(jié)構(gòu)碳薄膜低摩擦機(jī)制及發(fā)動(dòng)機(jī)應(yīng)用
設(shè)計(jì)構(gòu)筑在大氣環(huán)境條件下具有超低摩擦特性的固體潤(rùn)滑薄膜材料與技術(shù)，實(shí)現(xiàn)工程應(yīng)用是該領(lǐng)域的關(guān)鍵挑戰(zhàn)。
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納米氧化物薄膜的APCVD法制備、微結(jié)構(gòu)與穩(wěn)定性
采用常壓化學(xué)氣相沉積法(APCVD)在浮法玻璃基板上沉積制備了摻氟氧化錫薄膜、氧化鈦薄膜等各類節(jié)能功能鍍層。
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磁控靶濺射沉積率的影響因素
濺射沉積率是表征成膜速度的參數(shù)，其沉積率高低除了與工作氣體的種類與壓力、靶材種類與“濺射刻蝕區(qū)“的面積大小、靶面溫度與靶面磁場(chǎng)強(qiáng)度、靶源與基片的間距等影響因素外。
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銅銦鎵硒太陽(yáng)能電池及其產(chǎn)業(yè)化設(shè)備
薄膜太陽(yáng)能電池因其材料用量大大少于常規(guī)的晶硅電池，被認(rèn)為是大幅度降低清潔能源成本的發(fā)展方向之一。
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2020 年之后的電子學(xué)：碳基電子學(xué)的機(jī)遇和挑戰(zhàn)
簡(jiǎn)單地回顧一下基于一維納米材料特別是碳納米管的CMOS 技術(shù)的發(fā)展，目前所面臨的困難，以及可能的解決途徑以及展望。
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集成電子材料研究進(jìn)展
本報(bào)告首先分析了當(dāng)前我國(guó)電子信息產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)狀，特別是電子材料與元器件行業(yè)的狀況，結(jié)合國(guó)際電子信息技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)，闡述了研究集成電子材料的重要意義。
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真空常壓與氣體保護(hù)電渣熔煉的比較
真空、常壓與氣體保護(hù)電渣熔煉都是用來提高鋼材及合金質(zhì)量的冶金技術(shù)，叁者的冶金特性有相似之處，也有不同的地方。本文通過分析對(duì)比，找出每種方法的利弊，供冶金工作者選用。
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真空包裝機(jī)的選型：選擇合適的真空包裝機(jī)，才會(huì)提高經(jīng)濟(jì)效益
真空包裝機(jī)的種類有很多，在進(jìn)行包裝的過程中，如果是不能夠嚴(yán)格的按照自己的實(shí)際需求，選擇最合適的產(chǎn)品來進(jìn)行使用，將會(huì)嚴(yán)重的影響到企業(yè)的實(shí)質(zhì)發(fā)展。
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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)是借助微波或射頻等使含有薄膜